Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón
1. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío puede utilizar una cámara de vacío de pulverización catódica de gran capacidad y un objetivo de pulverización de área correspondiente de acuerdo con las características de ionización del gas en el campo eléctrico para hacer que el recubrimiento por pulverización catódica sea más uniforme y puro.
2. El cabezal de pulverización catódica de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío adopta tecnología de enfriamiento Peltier para obtener recubrimientos de partículas finas de alto rendimiento.
3. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío puede utilizar un cabezal de pulverización catódica refrigerado por agua y una platina refrigerada por agua.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Liaoning
- 10 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción de máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón y enfriador de agua:
Las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón GSL-1100X-SPC-16M con enfriador de agua utilizan el efecto de pulverización catódica producido por el bombardeo de partículas sobre el objetivo en un entorno de vacío para expulsar átomos o moléculas de la superficie sólida y depositarlos sobre el sustrato, formando una película delgada. Se trata de una tecnología de preparación de películas delgadas mediante deposición física de vapor (PVD). Este equipo de recubrimiento, sencillo, fiable y económico, es ideal para la preparación de diversas muestras de películas compuestas en el laboratorio y la producción de electrodos experimentales de materiales no conductores. Las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón con enfriador de agua se pueden utilizar en el laboratorio para preparar muestras de microscopio electrónico de barrido. Su tamaño compacto permite ahorrar espacio en el laboratorio; además, son fáciles de usar y aptas para principiantes.
Ventajas del recubridor por pulverización catódica de PVD:
1. El recubridor de pulverización catódica de PVD está equipado con un medidor de vacío y un medidor de corriente de pulverización catódica para monitorear el estado de trabajo en tiempo real.
2. El recubridor por pulverización catódica de PVD puede controlar la presión de la cámara de vacío, la corriente de ionización y seleccionar el gas de ionización requerido ajustando el controlador de corriente de pulverización catódica y la válvula de aire de microvacío para obtener el mejor efecto de recubrimiento.
3. El anillo de sello de goma en el borde de la campana de vidrio del recubridor pulverizador de PVD adopta un diseño especial para garantizar que la campana de vidrio no se colapse durante el uso a largo plazo.
4. El conector de electrodo de alto voltaje sellado de cerámica utilizado por el recubridor de pulverización catódica de PVD es más duradero que el sello de goma común.
Parámetros técnicos del recubridor de pulverización catódica PVD:
| Nombre del producto | Recubrimiento por pulverización catódica de PVD GSL-1100X-SPC-16M |
| Modelo de producto | GSL-1100X-SPC-16M |
| Condiciones de instalación | Este equipo debe utilizarse a una altitud inferior a 1000 m, una temperatura de 25 °C ± 15 °C y una humedad relativa del 55 % ± 10 %. 1. Agua: El equipo debe estar equipado con una máquina de agua de enfriamiento con autocirculación (llena con agua pura o agua desionizada). 2. Electricidad: CA 220 V, 50 Hz, debe estar bien conectado a tierra. 3. Gas: La cámara del equipo debe llenarse con argón (pureza superior al 99,99 %) y debe prepararse un cilindro de gas argón (con una válvula reductora de presión). 4. Banco de trabajo: tamaño 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga superior a 50 kg. 5. Dispositivo de ventilación: no necesario. |
| Parámetros principales | 1. Objetivo: Ø50mm. 2. Cámara de vacío: Ø160mm×120mm. 3. Grado de vacío: ≤4×10-2mbar. 4. Corriente máxima: 100 mA. 5. Tiempo límite configurable: 9999 s. 6. Válvula de aire de micro vacío: conectada a manguera de Ø3 mm. 7. Voltaje límite: 1600 V DC. 8. Bomba mecánica: 2L/s. 9. Material objetivo: Requisito de tamaño: φ50 mm × (0,1-0,5) mm (espesor). Adecuado para la pulverización catódica de Au, Ag, Cu y otros metales (disponibles en nuestra empresa). 10. Especificaciones del producto: Tamaño: 360 mm × 300 mm × 380 mm. Peso: Peso total: 50Kg. Peso neto de la máquina principal: 15Kg. |
Accesorios estándar del recubridor de pulverización catódica PVD:
| NO. | Nombre | Cantidad | Imagen |
| 1 | Objetivo de pulverización catódica de oro | 1 pieza | -- |
| 2 | válvula de aguja de entrada | 1 pieza | -- |
| 3 | Fusible | 2 piezas | -- |
Accesorios opcionales del recubridor de pulverización catódica PVD:
| NO. | Nombre | Función | Imagen |
| 1 | Diversos objetivos de pulverización catódica, como oro, indio, plata, platino, etc. | (Opcional) | -- |
Sobre nosotros:
No solo mantenemos altos estándares de calidad en nuestros productos, sino que también prestamos atención a los detalles de la logística y el embalaje. El transporte de instrumentos de precisión es fundamental. Una vez dañados, afectarán la producción normal de nuestros clientes. Nuestro equipo de embalaje ha recibido una rigurosa capacitación y domina las técnicas de embalaje de instrumentos de precisión. Para ello, hemos establecido un sistema logístico integral y colaborado con empresas de logística de renombre mundial para que usted reciba sus productos en poco tiempo.
