Recubrimiento por pulverización catódica de plasma con tres fuentes de pulverización catódica
El recubridor por pulverización catódica de magnetrón de tres cabezales VTC-600-3HD es un equipo de recubrimiento desarrollado recientemente por nuestra empresa y se utiliza para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de PTFE, etc. El recubridor por pulverización catódica de magnetrón de tres cabezales VTC-600-3HD está equipado con tres pistolas objetivo, una fuente de alimentación de RF para el recubrimiento por pulverización catódica de materiales no conductores y dos fuentes de alimentación de CC para el recubrimiento por pulverización catódica de materiales conductores.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 22 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción del producto
El VTC-600-3HD es un sistema de deposición de película delgada de alto vacío, desarrollado independientemente por nuestra empresa. Está diseñado para la preparación de diversas películas delgadas funcionales y permite la deposición de alta calidad de estructuras monocapa y multicapa. Este sistema se utiliza ampliamente para la fabricación de películas ferroeléctricas, conductoras, de aleación, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, recubrimientos ópticos, de óxido, duros y de PTFE.
El VTC-600-3HD está equipado con tres conjuntos de objetivos de pulverización catódica. Uno de ellos está conectado a una fuente de alimentación de RF, apta para materiales no conductores como óxidos y cerámicas, mientras que los otros dos se alimentan con fuentes de alimentación de CC para pulverizar materiales conductores como metales. Esta configuración ofrece una amplia compatibilidad de materiales.
En comparación con sistemas similares, este modelo presenta un diseño compacto, una estructura racional y un funcionamiento intuitivo, además de ofrecer una excelente integración multifuncional. Es especialmente adecuado para laboratorios de investigación dedicados al desarrollo y estudio de procesos de nuevos sistemas de materiales, como electrolitos de estado sólido y dispositivos OLED. El VTC-600-3HD es un sistema ideal de pulverización catódica con magnetrón a escala de laboratorio para la investigación avanzada de películas delgadas.
Características principales
1. Está equipado con tres pistolas objetivo, una fuente de alimentación de RF se utiliza para el recubrimiento por pulverización catódica de materiales no conductores y dos fuentes de alimentación de CC se utilizan para el recubrimiento por pulverización catódica de materiales conductores (la pistola objetivo se puede intercambiar según las necesidades del cliente).
2. Se pueden preparar una variedad de películas delgadas con una amplia gama de aplicaciones.
3. Tamaño pequeño y fácil de operar.
4. Diseño modular de toda la máquina; diseño separado/dividido de cámara de vacío, grupo de bomba de vacío y fuente de alimentación de control, que se puede ajustar según las necesidades reales de los usuarios.
5. La fuente de alimentación se puede seleccionar según las necesidades del usuario. Una sola fuente de alimentación puede controlar varios cañones, o varias fuentes de alimentación pueden controlar un solo cañón.
TParámetros técnicos
Nombre del producto | Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de tres cabezales VTC-600-3HD | ||
Modelo de producto | VTC-600-3HD | ||
| Condiciones de instalación | 1. Entorno: Temperatura ambiente: 25 °C ±15 °C; Humedad: ≤55 % HR ±10 % HR. El entorno debe ser seco, libre de polvo y gases inflamables o explosivos. 2. Suministro de agua: Equipado con un enfriador autocirculante KJ-5000, que utiliza agua purificada o desionizada. 3. Fuente de alimentación: monofásica CA 220 V 50 Hz, 10 A, con un disyuntor de 16 A instalado en el extremo frontal. 4. Requisito de gas: Se requiere gas argón (pureza ≥99,99%). El usuario debe preparar un cilindro de argón con un conector de doble casquillo de Ø6 mm y un regulador de presión. 5. Requisitos del banco de trabajo: Se recomienda un banco de trabajo estable con dimensiones L1300 mm × W750 mm × H700 mm y una capacidad de carga de ≥200 kg. 6. Ventilación: Se requiere una ventilación adecuada en el sitio de instalación; se puede instalar un sistema de intercambio de aire o de escape adicional si es necesario. | ||
Parámetros principales (Especificación) | Categoría | Especificación | Observaciones |
Sistema de vacío | Tamaño de la cámara de vacío: φ295 × H265 mm | Cámara de acero inoxidable con excelente resistencia a la corrosión. | |
Conjunto de bomba de vacío: · Bomba molecular: Hipace80 Bomba turbomolecular · Bomba de respaldo: MVP015-2DC Bomba de diafragma | Sistema original Pfeiffer con alta eficiencia de bombeo | ||
Vacío base: 5,0 E-3 Pa (5,0 E-5 hPa) | Vacío de base antes de la deposición | ||
Vacío máximo: 5,0 E-4 Pa (5,0 E-6 hPa) | Afectado por el medio ambiente y la calidad del sellado. | ||
| Presión de trabajo: 0,1~5 Pa (0,001~0,05 hPa) | Principalmente argón, gases reactivos opcionales. | ||
Velocidad de bombeo: · Bomba de respaldo: 1 m³/h · Bomba molecular: 67 L/s | Determina la eficiencia del tiempo de aspiración. | ||
| Configuración de la fuente de alimentación | Tipo y cantidad de energía： · CC (corriente continua): 2 unidades | La CC se utiliza para objetivos metálicos y la RF para objetivos aislantes. | |
Rango de potencia de salida: · CC: 0~500 W · RF: 0~300W | Salida ajustable para diversos materiales. | ||
| Impedancia de adaptación: 50 Ω | Garantiza una transmisión de potencia estable y eficiente. | ||
Gas Control | Gas de trabajo: Configuración estándar: Argón (Ar) | Se recomienda utilizar argón con una pureza de ≥99,999 | |
| Flujo de gas (2 canales)： · Canal 1: 1–100 sccm | Canales de flujo másico duales independientes, personalizables para otros gases | ||
Precisión del medidor de flujo: ±1 % FS | Sistema MFC de alta precisión | ||
Platina de muestra giratoria | Tamaño del escenario: Ø132 mm (≈5,2 pulgadas) | Compatible con múltiples tamaños de sustrato | |
Velocidad de rotación: 1–20 rpm | Mejora la uniformidad de la película. | ||
| Temperatura de calentamiento: RT–500 °C | Calentamiento de la superficie del sustrato con control de temperatura constante | ||
TPrecisión de temperatura: ±1 °C | PAGSistema de control de temperatura de identificación | ||
| Objetivos de magnetrón | Cantidad objetivo: 3 piezas | Operable individualmente o simultáneamente | |
· Tamaño del objetivo: Ø2 pulgadas · Espesor: 0,1–5 mm | El espesor varía según el material | ||
| Distancia objetivo-sustrato: 85–115 mm ajustable | Una distancia mayor mejora la uniformidad y reduce ligeramente la velocidad. | ||
| Método de enfriamiento: enfriamiento por agua | El sistema de refrigeración circulante protege la temperatura objetivo | ||
Rendimiento de deposición y otros | Uniformidad de la película: ±5 % (sustrato de Ø100 mm) | Determinado principalmente por la distancia objetivo-sustrato y la velocidad de rotación. | |
Rango de espesor de película: 10 nm–10 μm | Un espesor excesivo puede provocar grietas por tensión. | ||
Entrada de potencia máxima: · Unidad principal: 500 W; · Fuente de alimentación RF: 1100 W; · Fuente de alimentación de CC: 750 W | Sistemas de alimentación independientes para unidad principal, RF, CC y monitor de espesor. | ||
| Potencia de entrada： · Monofásica: CA 220 V 50/60 Hz | Se requiere una conexión a tierra adecuada | ||
| Dimensiones de la unidad principal: · 600 mm × 750 mm × 900 mm | Altura con tapa abierta: 1050 mm | ||
Dimensiones generales: · 1300 m × 750 mm × 900 mm | Incluye espacio de control y bomba. | ||
| Peso total: 160 kg | Excluyendo el sistema de enfriamiento | ||
Accesorios estándar
No. | Nombre | Cantidad | Imagen |
| 1 | Sistema de control de fuente de alimentación de CC | 2 juegos | - |
| 2 | Sistema de control de fuente de alimentación de RF | 1 juego | - |
| 3 | Sistema de monitoreo de espesor de película | 1 juego | - |
| 4 | Bomba molecular (importada en Alemania o nacional con mayor velocidad de bombeo) | 1 unidad | - |
| 5 | Enfriador | 1 unidad | - |
| 6 | Tubo de poliéster PU (Ø6 mm) | 4 metros | - |
Accesorios opcionales
| No. | Nombre | Categoría de función | Imagen |
| 1 | Varios objetivos (oro, indio, plata, platino, etc.) | Opcional | - |
| 2 | Objetivo magnético fuerte (para pulverización catódica de material ferromagnético) | Opcional | - |
| 3 | Mascarilla | Opcional | - |
| 4 | Etapa de muestra vibratoria | Opcional | - |
| 5 | Dispositivo de recubrimiento giratorio de doble capa | Opcional |  |
Garantía
Garantía limitada de un año con soporte de por vida (sin incluir piezas oxidadas debido a condiciones de almacenamiento inadecuadas)
Logística
