Recubrimiento por pulverización catódica de plasma con magnetrón de alto vacío de un solo cabezal
El recubridor por pulverización catódica de magnetrón de un solo cabezal VTC-600-1HD es un equipo de recubrimiento de alto vacío desarrollado recientemente por nuestra empresa y se utiliza para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de PTFE, etc.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo cabezal VTC-600-1HD está equipado con una pistola objetivo, que permite elegir entre un objetivo magnético fuerte o un objetivo magnético débil.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 22 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción del producto
El sistema de pulverización catódica por magnetrón de un solo objetivo VTC-600-1HD es un nuevo instrumento de recubrimiento por alto vacío, diseñado y fabricado por nuestra empresa. Está diseñado específicamente para que instituciones de investigación y laboratorios preparen una amplia gama de películas delgadas. El sistema es adecuado para la fabricación de películas monocapa o multicapa, como películas ferroeléctricas, conductoras, de aleación, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, ópticas, de óxido, recubrimientos duros y de PTFE.
El VTC-600-1HD está equipado con una pistola de pulverización catódica con magnetrón, que se puede configurar con un objetivo magnético fuerte o un objetivo magnético débil según la aplicación:
· El objetivo magnético débil es adecuado para pulverizar materiales no magnéticos.
· El fuerte objetivo magnético está diseñado para una pulverización catódica eficiente de materiales ferromagnéticos.
Con una cámara de alto vacío y un sistema de control de potencia estable, el VTC-600-1HD garantiza una excelente uniformidad y adhesión de la película. En comparación con equipos similares, ofrece un diseño compacto, fácil manejo y una amplia compatibilidad de materiales, lo que lo convierte en la opción ideal para la deposición de películas delgadas en el laboratorio y la investigación de materiales avanzados.
Características principales
1. Está equipado con una pistola objetivo, pudiendo elegir entre una fuente de alimentación de RF para el recubrimiento por pulverización catódica de materiales no conductores o una fuente de alimentación de CC para el recubrimiento por pulverización catódica de materiales conductores.
2. Se pueden preparar una variedad de películas delgadas con una amplia gama de aplicaciones.
3. Tamaño pequeño y fácil de operar.
TParámetros técnicos
Nombre del producto | Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de un solo cabezal VTC-600-1HD |
Modelo de producto | VTC-600-1HD |
Condiciones de instalación | Este equipo debe utilizarse a una altitud de 1000 m o menos, una temperatura de 25 °C ± 15 °C y una humedad relativa del 55 % ± 10 %. 1. Agua: El equipo está equipado con un enfriador de agua autocirculante (que se llena con agua pura o agua desionizada). 2. Electricidad: CA 220 V 50 Hz, debe tener una buena conexión a tierra. 3. Gas: La cámara del equipo debe llenarse con gas argón (pureza del 99,99 % o más), y los usuarios deben proporcionar cilindros de gas argón (con juntas de doble casquillo de Ø6 mm) y una válvula reductora de presión. 4. Banco de trabajo: tamaño 1500 mm × 600 mm × 700 mm, soporta más de 200 kg 5. Dispositivo de ventilación: necesario |
Parámetros principales (Especificación) | 1. Voltaje de alimentación: 220 V 50 Hz 2. Potencia: <1KW (sin incluir bomba de vacío) 3. Diámetro interior de la cámara: Ø300mm 4. Límite del grado de vacío: 9,0×10-4Bien 5. Temperatura de calentamiento de la etapa de muestra: RT-500 ℃, precisión ±1 ℃ (la temperatura se puede aumentar según las necesidades reales). 6. Número de cañones de destino: 1 pieza (otras cantidades a elección) 7. Método de refrigeración del arma de tiro: refrigeración por agua. 8. Tamaño del material objetivo: Ø2″, espesor 0,1-5 mm (diferentes espesores debido a los diferentes materiales objetivo) 9. Potencia de pulverización catódica de CC: 500 W; Potencia de pulverización catódica de RF: 300 W (El tipo de fuente de alimentación de destino es opcional: una fuente de alimentación de CC o una fuente de alimentación de RF). 10. Etapa de muestra: Ø140 mm, se puede instalar una función de voltaje de polarización opcional según los requisitos del cliente para lograr una mayor calidad de recubrimiento. 11. Velocidad de la etapa de muestra: ajustable entre 1 rpm y 20 rpm 12. Gas de trabajo: Ar y otros gases inertes 13. Ruta de admisión de aire: El medidor de flujo másico controla 2 rutas de admisión de aire, una es de 100 SCCM y la otra es de 200 SCCM. |
| Dimensiones y peso del producto | 1. Dimensión de la máquina principal: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Dimensiones totales: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Peso: 160 kg 4. Dimensión de la cámara de vacío: φ300×300 mm |
Accesorios estándar
| No. | Nombre | Cantidad | Imagen |
| 1 | Sistema de control de potencia de CC (opcional) | 1 juego | - |
| 2 | Sistema de control de potencia de RF (opcional) | 1 juego | - |
| 3 | Enfriador de agua | 1 pieza | - |
| 4 | Tubo de poliéster PU (Ø6 mm) | 4 metros | - |
Accesorios opcionales
| No. | Nombre | Categoría de función | Imagen |
| 1 | Diversos materiales objetivo como oro, indio, plata, platino, etc. | opcional | - |
| 2 | Objetivo magnético fuerte opcional para pulverización catódica de materiales ferromagnéticos | opcional | - |
| 3 | Sistema de monitorización del espesor de la película | opcional | - |
| 4 | bomba molecular (importada de Alemania) | opcional | - |
Degarantía
Garantía limitada de un año con soporte de por vida (sin incluir piezas oxidadas debido a condiciones de almacenamiento inadecuadas)
Logística
