Recubridor por pulverización magnetrónica
1. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de vacío puede utilizar una cámara de vacío de pulverización de gran capacidad y un objetivo de pulverización de área correspondiente, de acuerdo con las características de ionización del gas en el campo eléctrico, para lograr un recubrimiento por pulverización más uniforme y puro.
2. El cabezal de pulverización de la máquina de recubrimiento por pulverización magnetrónica de vacío adopta la tecnología de enfriamiento Peltier para obtener recubrimientos de alto rendimiento y partículas finas.
3. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de vacío puede utilizar un cabezal de pulverización refrigerado por agua y una etapa refrigerada por agua.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Liaoning
- 10 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción de máquinas de recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica con enfriador de agua:
Las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica GSL-1100X-SPC-16M con refrigerador de agua utilizan el efecto de pulverización catódica producido por el bombardeo de partículas sobre el objetivo en un entorno de vacío para expulsar átomos o moléculas de la superficie sólida y depositarlos sobre el sustrato, formando una película delgada. Se trata de una tecnología de preparación de películas delgadas por deposición física de vapor (PVD). Este equipo de recubrimiento, sencillo, fiable y económico, está diseñado para la preparación de diversas muestras de películas compuestas en el laboratorio y la producción de electrodos experimentales de materiales no conductores. Las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica magnetrónica con refrigerador de agua pueden utilizarse en el laboratorio para preparar muestras para microscopía electrónica de barrido. Su tamaño compacto permite ahorrar espacio en el laboratorio y su fácil manejo las hace ideales para principiantes.
Ventajas del recubridor por pulverización catódica PVD:
1. Equipado con unmanómetro de vacíoy unmedidor de corriente de pulverizaciónEl sistema permite la monitorización en tiempo real de las condiciones de funcionamiento.
2. Ajustando elcontrolador de corriente de pulverizaciónymicroválvula de vacíoLos usuarios pueden controlar la presión de la cámara, la corriente de ionización y seleccionar el gas ionizante deseado para lograr condiciones óptimas de deposición de la película.
3. Elanillo de sellado de gomaEl borde de la campana de cristal está especialmente diseñado para evitar que el vidrio se astille incluso después de un uso prolongado.
4. Elconector de electrodo de alto voltaje sellado con cerámicaOfrece mayor durabilidad que las juntas de goma convencionales.
5. Basándose en las características de ionización de los gases en un campo eléctrico, el sistema utiliza uncámara de pulverización de gran volumeny unobjetivo con un área apropiada, lo que garantiza un recubrimiento pulverizado más uniforme y puro.
6. Elcabeza chisporroteanteadoptaTecnología de refrigeración Peltier, lo que permite obtener recubrimientos de alto rendimiento con estructuras de grano fino.
7. Amboscabezales de pulverización refrigerados por aguayPortamuestras refrigerados por aguaestán disponibles.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica PVD:
| Nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica PVD GSL-1100X-SPC-16M | |
| modelo de producto | GSL-1100X-SPC-16M | |
| Condiciones de instalación | Este equipo debe utilizarse a una temperatura de 25 ℃ ± 15 ℃ y una humedad relativa de 55 % ± 10 %. 1. Agua: El equipo debe estar equipado con una máquina de agua de refrigeración de recirculación automática (llena con agua pura o agua desionizada). 2. Electricidad: AC220V 50Hz, debe estar bien conectado a tierra. 3. Gas: La cámara del equipo debe llenarse con argón (pureza superior al 99,99%) y debe prepararse un cilindro de gas argón (con una válvula reductora de presión). 4. Banco de trabajo: dimensiones 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga superior a 50 kg. 5. Dispositivo de ventilación: no requerido. | |
| Parámetros principales | 1. Objetivo: Ø50 mm. 2. Cámara de vacío: Ø160 mm × 120 mm. 3. Grado de vacío: ≤4×10-2mbar. 4. Corriente máxima: 100 mA. 5. Tiempo límite configurable: 9999s. 6. Microválvula de vacío: conectada a manguera de Ø3 mm. 7. Tensión límite: 1600 V CC. 8. Bomba mecánica: 2 l/s. 9. Material objetivo: • Requisito de tamaño: φ50 mm × (0,1-0,5) mm (espesor). · Adecuado para la pulverización catódica de Au, Ag, Cu y otros metales (disponibles en nuestra empresa). | |
10. Especificaciones del producto: • Tamaño: 360 mm × 300 mm × 380 mm. · Peso: • Peso total: 50 kg. • Peso neto de la máquina principal: 15 kg. |
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Accesorios estándar de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica PVD:
| No. | Nombre | Cantidad | Imagen |
| 1 | Objetivo de pulverización de oro | 1 pieza | -- |
| 2 | Válvula de aguja de entrada | 1 pieza | -- |
| 3 | Fusible | 2 piezas | -- |
Accesorios opcionales del recubridor por pulverización catódica PVD:
| No. | Nombre | Función | Imagen |
| 1 | Diversos objetivos de pulverización catódica como oro, indio, plata, platino, etc. | (Opcional) | -- |
Sobre nosotros:
No solo mantenemos altos estándares de calidad en nuestros productos, sino que también prestamos especial atención a los detalles de la logística y el embalaje. El transporte de instrumentos de precisión es crucial. Cualquier daño afectaría la producción normal de nuestros clientes. Nuestro equipo de embalaje ha recibido una formación rigurosa y domina las técnicas de embalaje de instrumentos de precisión. Para ello, hemos implementado un sistema logístico integral y colaboramos con empresas de logística de renombre mundial para que usted reciba sus productos en el menor tiempo posible.
