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Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón

Marca Shenyang Kejing

El origen de los productos Shenyang, Liaoning

El tiempo de entrega 10 días laborables

La capacidad de oferta 50 juegos

1. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío puede utilizar una cámara de vacío de pulverización catódica de gran capacidad y un objetivo de pulverización catódica de área correspondiente de acuerdo con las características de ionización del gas en el campo eléctrico para hacer que el recubrimiento por pulverización catódica sea más uniforme y puro.
2. El cabezal de pulverización catódica de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío adopta tecnología de enfriamiento Peltier para obtener recubrimientos de partículas finas de alto rendimiento.
3. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío puede utilizar un cabezal de pulverización catódica refrigerado por agua y una etapa refrigerada por agua.

Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón

Introducción de máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón y enfriador de agua:

Las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón GSL-1100X-SPC-16M con enfriador de agua utilizan el efecto de pulverización catódica producido por el bombardeo de partículas del objetivo en un entorno de vacío para expulsar átomos o moléculas del objetivo de la superficie sólida y depositarlos en el sustrato para formar una película delgada. Es un tipo de tecnología de preparación de película delgada por deposición física de vapor (PVD). El equipo de recubrimiento simple, confiable y económico diseñado es adecuado para la preparación de varias muestras de película compuesta en el laboratorio y la producción de electrodos experimentales de materiales no conductores. Las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón con enfriador de agua se pueden usar en el laboratorio para preparar muestras de microscopio electrónico de barrido, y las máquinas de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón con enfriador de agua son de tamaño pequeño, lo que ahorra espacio en el laboratorio; fácil de operar, adecuado para principiantes.
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Ventajas del recubridor por pulverización catódica PVD:

1. El recubridor de pulverización catódica de PVD está equipado con un medidor de vacío y un medidor de corriente de pulverización catódica para monitorear el estado de trabajo en tiempo real.

2. El recubridor por pulverización catódica de PVD puede controlar la presión de la cámara de vacío, la corriente de ionización y seleccionar el gas de ionización requerido ajustando el controlador de corriente de pulverización catódica y la válvula de aire de micro vacío para obtener el mejor efecto de recubrimiento.

3. El anillo de sello de goma en el borde de la campana de vidrio del recubridor por pulverización catódica de PVD adopta un diseño especial para garantizar que la campana de vidrio no se colapse durante el uso a largo plazo.

4. El conector de electrodo de alto voltaje sellado de cerámica utilizado por el recubridor de pulverización catódica de PVD es más duradero que el sello de goma común.


Parámetros técnicos del recubridor de pulverización catódica PVD:

Nombre del producto

Recubrimiento por pulverización catódica de PVD GSL-1100X-SPC-16M

Modelo del producto

GSL-1100X-SPC-16M

Condiciones de instalación

Este equipo debe utilizarse a una altitud inferior a 1000 m, una temperatura de 25 ℃ ± 15 ℃ y una humedad de 55 % Rh ± 10 % Rh.

1. Agua: El equipo debe estar equipado con una máquina de agua de enfriamiento con autocirculación (llena con agua pura o agua desionizada).

2. Electricidad: CA 220 V 50 Hz, debe estar bien conectado a tierra.

3. Gas: La cámara del equipo debe llenarse con argón (pureza superior al 99,99 %) y debe prepararse un cilindro de gas argón (con válvula reductora de presión).

4. Banco de trabajo: tamaño 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga superior a 50 kg.

5. Dispositivo de ventilación: no necesario.

Parámetros principales

1. Objetivo: Ø50mm.

2. Cámara de vacío: Ø160mm×120mm.

3. Grado de vacío: ≤4×10-2mbar.

4. Corriente máxima: 50 mA (opcional 100 mA).

5. Tiempo límite configurable: 9999 s.

6. Válvula de aire de micro vacío: conectada a manguera de Ø3 mm.

7. Voltaje límite: 1600 V DC.

8. Bomba mecánica: 2L/s.

9. Material de destino:

Requisito de tamaño: φ50 mm × (0,1-0,5) mm (espesor).

Adecuado para la pulverización catódica de Au, Ag, Cu y otros metales (disponibles en nuestra empresa).

10. Especificaciones del producto:

Tamaño: 360 mm × 300 mm × 380 mm.

Peso:

Peso total: 50Kg.

Peso neto de la máquina principal: 15Kg.
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Accesorios estándar del recubridor de pulverización catódica PVD:

NO.NombreCantidadImagen
1Objetivo de pulverización de oro1 pieza--
2Válvula de aguja de entrada1 pieza--
3Fusible2 piezas--


Accesorios opcionales del recubridor de pulverización catódica PVD:

NO.NombreFunciónImagen
1Diversos objetivos de pulverización catódica, como oro, indio, plata, platino, etc.(Opcional)--


Sobre nosotros:

No solo tenemos altos estándares en la calidad de nuestros productos, sino que también prestamos atención a los detalles en la logística y el embalaje. El proceso de transporte de los instrumentos de precisión es extremadamente importante. Una vez dañado, afectará la producción normal de los clientes. Nuestro equipo de embalaje ha recibido una formación rigurosa y domina las habilidades de embalaje de los instrumentos de precisión. Con este fin, hemos establecido un sistema logístico completo y cooperado con empresas de logística de renombre mundial para permitirle recibir los productos en poco tiempo.

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