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¿Es difícil o fácil la preparación de una película delgada?

Las películas delgadas desiguales provocarán desviaciones en los datos experimentales y afectarán la precisión de los resultados de la investigación. La tecnología tradicional de recubrimiento de película se ve fácilmente afectada por las técnicas operativas, la precisión del equipo y los factores ambientales, y es difícil lograr un recubrimiento uniforme en un área grande.

2025/02/28
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¿Cuáles son los factores que afectan la pulverización catódica por magnetrón de alto vacío?

Partiendo de la pulverización catódica básica con magnetrón, se introduce un entorno de crecimiento en alto vacío y alta temperatura, y se combina la tecnología de plasma para mejorar la eficiencia de la reacción de deposición reactiva, logrando así la epitaxia de la película de pulverización catódica con magnetrón. La película preparada en estas condiciones de alto vacío presenta una mejor orientación reticular y propiedades cristalinas excepcionales. Tiene una amplia gama de aplicaciones en materiales cuánticos superconductores, ferroeléctricos, piezoeléctricos, termoeléctricos y otros campos. El alto vacío ayuda a reducir la influencia de las impurezas y a garantizar que las partículas pulverizadas no reaccionen adversamente con otros gases durante el proceso de deposición.

2025/03/20
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¿Cuál es la diferencia entre CC, FI y RF en la pulverización catódica?

El surgimiento y la aplicación de la tecnología de pulverización catódica han pasado por varias etapas. Tras más de 30 años de desarrollo, la pulverización catódica por magnetrón se ha convertido en un método irremplazable para películas delgadas ópticas, eléctricas y otras funciones. ¿Cuánto sabe sobre ella?

2025/03/21
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Brille en la Asia Photonics Expo (APE 2025)

APE 2025 es una de las exposiciones de materiales avanzados y tecnología energética más grandes e influyentes de Asia, que reúne a las principales empresas e instituciones de investigación científica del mundo. En la feria, nuestro stand recibió a cientos de visitantes, incluyendo profesionales de prestigiosas universidades, institutos de investigación científica y empresas, convirtiéndonos en uno de los focos de atención de la exposición.

2025/02/28
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Ventajas de alto rendimiento de la máquina de pirólisis por pulverización asistida por llama

La nueva generación de máquinas de pirólisis por pulverización asistida por llama ofrece ventajas únicas: alta eficiencia, precisión y exactitud. La tecnología de deposición de recubrimiento de alto nivel ofrece una mejor opción para diversos campos. Combinando alta eficiencia y precisión: El producto adopta tecnología avanzada de pirólisis por pulverización para lograr una rápida descomposición y deposición. Gracias a esta ventaja, el producto puede mejorar considerablemente la uniformidad y la adhesión del recubrimiento para satisfacer las diferentes necesidades de cada aplicación.

2025/02/27
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