Página interior

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma con 3 fuentes de pulverización y caja de guantes

El sistema de preparación de baterías de película delgada VGB-600-3HD permite realizar operaciones experimentales en una caja de guantes y se utiliza para preparar películas ferroeléctricas, conductoras, de aleación, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, ópticas, de óxido, rígidas, de PTFE, etc., de una o varias capas. El sistema está equipado con tres cañones de plasma y una fuente de alimentación de radiofrecuencia para el recubrimiento por pulverización catódica de diversos materiales. La fuente de alimentación de radiofrecuencia se puede conectar a cualquier cabezal de plasma mediante un conmutador.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 44 días laborables
  • 50 juegos
  • información

Introducción del producto

ElSistema de deposición de baterías de película delgada VGB-600-3HDEstá diseñado para su uso dentro de una caja de guantes, lo que permite la preparación de películas delgadas de una o varias capas, tales como películas ferroeléctricas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, recubrimientos duros y películas de PTFE.

Este sistema está equipado contres cañones que chisporrotean, con unoFuente de alimentación de RFque se puede cambiar a cualquiera de los tres objetivos mediante un interruptor de transferencia, lo que permite la pulverización flexible de diferentes materiales objetivo.

En comparación con equipos similares, el VGB-600-3HD ofrecemayor versatilidad de aplicación,estructura compacta, yOperación sencilla, convirtiéndolo en unInstrumento ideal para la preparación de películas delgadas en laboratorioEs especialmente adecuado paraInvestigación sobre baterías de película delgada, electrolitos de estado sólido y materiales OLED.

A diferencia de los sistemas de pulverización catódica magnetrónica convencionales, este modelo admite la pulverización catódica mediantelitio y materiales objetivo basados ​​en litio, lo que la convierte en una solución preferida paraExperimentos de recubrimiento de película delgada en nuevos laboratorios de energía.


Características principales

1. El sistema está equipado con tres cañones de plasma y una fuente de alimentación de radiofrecuencia para el recubrimiento por pulverización catódica de diversos materiales. La fuente de alimentación de radiofrecuencia se puede conectar a cualquier cabezal de recubrimiento mediante un conmutador. (El cañón de plasma se puede intercambiar según las necesidades del cliente).

2. Se pueden preparar diversas películas delgadas con una amplia gama de aplicaciones.

3. Tamaño pequeño y fácil de usar

4. Diseño modular de toda la máquina; diseño independiente/dividido de la cámara de vacío, el grupo de bombas de vacío y la fuente de alimentación de control, que se puede ajustar según las necesidades reales de los usuarios. (opcional)

5. La fuente de alimentación se puede seleccionar según las necesidades del usuario. Una sola fuente puede controlar varios cañones de blancos, o varias fuentes pueden controlar un solo cañón.

6. La operación experimental se puede llevar a cabo en la caja de guantes y se pueden reemplazar varios tipos de objetivos fácilmente oxidables para los experimentos de recubrimiento.


TParámetros técnicos

Nombre del producto

Sistema de preparación de baterías de película delgada VGB-600-3HD

Modelo de producto

VGB-600-3HD

Parámetros principales

(Especificación)

Pieza de pulverización catódica magnetrónica de tres cabezales:

1. Tensión de alimentación: 220 V 50 Hz

2. Potencia total: 2,5 kW

3. Límite de grado de vacío: E-6mbar (se puede alcanzar E-3mbar cuando se utiliza con el equipo de bombeo mecánico de nuestra empresa).

4. Temperatura de calentamiento: RT-500 ℃, precisión ±1 ℃ (La temperatura se puede aumentar según las necesidades reales).

5. Número de pistolas objetivo: 3 unidades

6. Método de refrigeración del cañón objetivo: refrigeración por agua

7. Tamaño del material objetivo: Ø2″, espesor 0,1-5 mm (los espesores varían según el material objetivo).

8. Fuente de alimentación para pulverización catódica: 300 W (RF)/500 W (CC)

9. Etapa de muestra: Ø140 mm

10. Velocidad de la plataforma de muestra: ajustable entre 1 rpm y 20 rpm.

11. Gas de trabajo: Ar, N₂2y otros gases inertes

12. Trayectoria del aire de admisión: El medidor de flujo másico controla 2 trayectorias de admisión de aire, una es de 100 SCCM y la otra es de 200 SCCM.


Pieza de la guantera:

1. Alimentación: monofásica CA 110V-220V 50Hz/60Hz

2. Material de la carcasa: acero inoxidable 304

3. Compartimento de la guantera: 1220 mm × 760 mm × 900 mm

4. Cámara frontal: Hay 2 cámaras frontales, la cámara frontal grande es Ø360 mm × 600 mm y la cámara frontal pequeña es Ø150 mm × 300 mm.

5. Entorno de la cámara: contenido de agua <1 ppm (20 ℃, 1 atm), contenido de oxígeno <1 ppm (20 ℃, 1 atm)

6. Gas de trabajo: N2, Ar, He y otros gases nobles

7. Gas de control: aire comprimido o gas inerte

8. Gas reductor: una mezcla de gas de trabajo y H₂2 (Si el sistema de purificación solo tiene la función de eliminar agua, el gas reductor es el mismo que el gas de trabajo).

9. Sistema de purificación de gas:

Material desoxidante de la empresa alemana BASF, material absorbente de agua de alta eficiencia de la empresa estadounidense UOP, control automático del proceso de regeneración del sistema de purificación, funciones automáticas de eliminación de agua y oxígeno, capaz de mantener de forma continua la pureza del gas (a niveles de agua <1 ppm y oxígeno <1 ppm) a largo plazo.

10. Sistema de control de presión: La presión de aire de la cámara se puede controlar automáticamente mediante una pantalla táctil PLC, con una precisión de control de ±1 Pa, y también se puede controlar manualmente mediante un interruptor de pie.

11. Sistema de filtración: Se instalan filtros en los extremos de entrada y salida, y la precisión de filtración es de 0,3 μm.

12. Sistema de control: pantalla táctil a color SIEMENS (6 pulgadas), sistema de control PLC, interruptor bilingüe chino-inglés.

    * La sonda de agua es de la marca estadounidense GE, con pantalla táctil de 0-1000 ppm y una precisión de 0,1 ppm.

    * El transmisor de oxígeno adopta la marca estadounidense AII, con pantalla táctil de 0-1000 ppm y una precisión de 0,1 ppm.

    * El sensor de presión adopta la marca estadounidense Setra, con pantalla táctil de -2500-2500 Pa y una precisión de ±1 Pa.

13. Bomba de vacío: marca británica EDWARDS con velocidad de bombeo de 8,4 m³/h a 12 m3/h

14. Guantes: Marca American NORTH (caucho sintético butílico)

15. Sistema de iluminación: Marca Philips (tubo fluorescente)

Dimensiones del producto

Pieza de pulverización catódica magnetrónica de tres cabezales: 950 mm × 460 mm × 810 mm

Parte de la guantera: 2300 mm × 1500 mm × 1900 mm



Garantía

    Un año de garantía limitada con soporte de por vida (no incluye piezas oxidadas debido a condiciones de almacenamiento inadecuadas).



Logística

Plasma Sputtering Coater


Obtenga el último precio? Le responderemos lo antes posible (dentro de las 12 horas)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.