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Aplicación del recubrimiento por centrifugación en el proceso de fotolitografía de semiconductores

Desgomado: Con la recubridora rotativa por pulverización VTC-200-4P, se aplica el desgomado húmedo. El disolvente orgánico se aplica gota a gota sobre la película fotorresistente en la superficie del modelo, disolviéndola y eliminándola, dejando un modelo limpio. Los equipos de recubrimiento disponibles incluyen la recubridora rotativa al vacío VTC-100PA, la recubridora rotativa al vacío con calentamiento de la cubierta superior VTC-100PA-Ⅰ, la recubridora rotativa al vacío VTC-100, la recubridora rotativa al vacío VTC-200, la recubridora rotativa al vacío VTC-200PV, la recubridora rotativa por pulverización VTC-200-4P y la recubridora rotativa ultravioleta VTC-100PA-UV. Se pueden utilizar diferentes recubridoras rotativas según el proceso específico.

2025/06/16
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Los beneficios de utilizar un enfriador de laboratorio

Un enfriador de laboratorio es un sistema de refrigeración especialmente diseñado para mantener una temperatura constante en equipos o procesos de laboratorio. Su principio de funcionamiento consiste en hacer circular el fluido refrigerante (agua, etilenglicol o un refrigerante específico) en un sistema de circuito cerrado, eliminando así el calor del equipo o la muestra. Este proceso garantiza que la temperatura se mantenga estable y dentro del rango requerido, lo cual es crucial para la precisión y la fiabilidad de muchas aplicaciones de laboratorio.

2025/06/13
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¿Cómo mejora el horno de secado de laboratorio la eficiencia del trabajo?

Con el rápido desarrollo de la industria moderna, la importancia de este producto se ha visto reflejada gradualmente. Este equipo también se utiliza ampliamente en industrias como la farmacéutica, la electrónica y la ciencia de los materiales. Estas industrias también tienen altos requisitos para el secado y curado de materiales sensibles. El horno de secado de laboratorio que fabricamos satisface plenamente las altas exigencias de estas industrias y puede ayudar a nuestros clientes a lograr un alto rendimiento en la producción o los experimentos.

2025/05/29
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¿Cuál es la diferencia entre CC, FI y RF en la pulverización catódica?

El surgimiento y la aplicación de la tecnología de pulverización catódica han pasado por varias etapas. Tras más de 30 años de desarrollo, la pulverización catódica por magnetrón se ha convertido en un método irremplazable para películas delgadas ópticas, eléctricas y otras funciones. ¿Cuánto sabe sobre ella?

2025/03/21
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¿Cuáles son los factores que afectan la pulverización catódica por magnetrón de alto vacío?

Partiendo de la pulverización catódica básica con magnetrón, se introduce un entorno de crecimiento en alto vacío y alta temperatura, y se combina la tecnología de plasma para mejorar la eficiencia de la reacción de deposición reactiva, logrando así la epitaxia de la película de pulverización catódica con magnetrón. La película preparada en estas condiciones de alto vacío presenta una mejor orientación reticular y propiedades cristalinas excepcionales. Tiene una amplia gama de aplicaciones en materiales cuánticos superconductores, ferroeléctricos, piezoeléctricos, termoeléctricos y otros campos. El alto vacío ayuda a reducir la influencia de las impurezas y a garantizar que las partículas pulverizadas no reaccionen adversamente con otros gases durante el proceso de deposición.

2025/03/20
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Brille en la Asia Photonics Expo (APE 2025)

APE 2025 es una de las exposiciones de materiales avanzados y tecnología energética más grandes e influyentes de Asia, que reúne a las principales empresas e instituciones de investigación científica del mundo. En la feria, nuestro stand recibió a cientos de visitantes, incluyendo profesionales de prestigiosas universidades, institutos de investigación científica y empresas, convirtiéndonos en uno de los focos de atención de la exposición.

2025/02/28
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