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Instrumento de pulverización catódica de película fina de plasma

1. La máquina de pulverización catódica de películas delgadas está especialmente diseñada para la preparación de recubrimientos de metales como oro, platino, indio, plata, etc., y tiene una gran adaptabilidad.
2. La máquina de pulverización catódica de películas delgadas es construida de forma independiente por nuestra empresa, utiliza materiales muy duraderos y puede utilizarse durante mucho tiempo.
3. La máquina de pulverización catódica de películas delgadas está equipada con un panel de operación, que puede configurar el tiempo de trabajo y el tamaño de la corriente, y facilitar el control del proceso experimental.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 10 días laborables
  • 50 juegos
  • información

Introducción de Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma con magnetrón de sobremesa:

La máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma con magnetrón de sobremesa GSL-1100X-SPC-12 está especialmente diseñada para recubrir películas metálicas (como oro, platino, indio, plata, etc.) sobre sustratos. El diámetro máximo de la muestra es de 40 mm y el espesor de la película puede alcanzar los 300 Å. Es especialmente adecuada para el recubrimiento de oro de muestras de SEM como electrodo conductor.

Thin Films Sputtering Machine

Características de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma con magnetrón de escritorio:

1. El producto puede ajustar la corriente y configurar el tiempo de pulverización.

2. El producto ha pasado la certificación CE y cumple con los estándares internacionales.


Parámetros técnicos de la máquina de pulverización catódica de películas delgadas:

Modelo de productoInstrumento de pulverización catódica de película fina por plasma GSL-1100X-SPC-12
Icondiciones de instalación

Este equipo debe utilizarse a una temperatura de 25 °C ± 15 °C y una humedad de 55 % Rh ± 10 % Rh.

1. Agua: No necesaria.

2. Electricidad: CA 220 V, 50 Hz, debe estar bien conectado a tierra.

3. Gas: La cámara del equipo debe llenarse con argón (pureza superior al 99,99 %) para su limpieza y usted debe traer su propio cilindro de gas argón.

4. Banco de trabajo: tamaño 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga superior a 50 kg.

5. Dispositivo de ventilación: obligatorio.

Parámetros técnicos del mini recubridor por pulverización catódica de plasma

1. Potencia de entrada del mini recubridor por pulverización catódica de plasma: 208 V-240 V 50 Hz/60 Hz.

2. Platina de muestra: Ø60mm, altura regulable.

3. Cavidad de cuarzo: Ø100mm×130mm.

4. Entrada de aire: Hay una válvula en el interior, que se puede utilizar para introducir diversos gases en la cavidad.

5. Objetivo: Objetivo de oro con una pureza de 4N, Ø57mm×0,12mm.

Mini Plasma Sputtering CoaterDesktop magnetron plasma sputtering coater machine

Especificaciones del mini recubridor por pulverización catódica de plasma

Tamaño: 480 mm × 320 mm × 150 mm; Peso: 20 kg
Accesorios opcionales del mini recubridor por pulverización catódica de plasma

1. Au (Ø57 mm × 0,12 mm, 4 N)

2. Pt (Ø57 mm × 0,12 mm, 4 N)

3. Ag (Ø57 mm × 0,5 mm, 4 N)


Sobre nuestras ventajas:

1. Capacidades independientes de I+D y fabricación:

Shenyang Kejing cuenta con capacidades independientes de I+D y producción. Todas las tecnologías se desarrollan internamente para garantizar la calidad del producto y el liderazgo tecnológico.

2. Servicio al cliente eficiente:

La empresa se centra en las necesidades del cliente, ofrece soluciones personalizadas y puede responder rápidamente a las necesidades de soporte técnico de los clientes para mejorar la experiencia y la satisfacción del cliente.

3. Sólida experiencia en el sector:

Shenyang Kejing ha acumulado una rica experiencia en múltiples campos industriales, especialmente en equipos de alta precisión e innovación tecnológica, ayudando a los clientes a mejorar la eficiencia de producción y el nivel técnico.


Thin Films Sputtering Machine

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