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Máquina de pulverización catódica de plasma con magnetrón de CC de pequeña escala

1. Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio está diseñado específicamente para las necesidades de recubrimiento de metales y se puede utilizar con una variedad de materiales metálicos.
2. La platina de muestra de este recubridor de pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio es ajustable en altura, lo que le permite acomodar muestras de distintos tamaños.
3. Este recubridor por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio se puede utilizar opcionalmente con nuestra unidad de alto vacío para lograr niveles de vacío aún más elevados.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 10 días laborables
  • 50 juegos
  • información

Introducción de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio:

El recubridor por pulverización catódica con magnetrón VTC-16-D es un pequeño recubridor de plasma de magnetrón de CC con un cabezal objetivo de 5 cm de diámetro y una platina de muestra ajustable. Este pequeño instrumento de pulverización catódica con magnetrón está diseñado principalmente para la producción de películas metálicas. Gracias a su tamaño compacto y su alta rentabilidad, es un sistema de recubrimiento ideal para diversas películas delgadas metálicas.

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

Características principales de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio:

· El recubridor por pulverización catódica con magnetrón es compacto, fácil de operar y usar.

· El pequeño instrumento de pulverización catódica de plasma con magnetrón cuenta con un pequeño cabezal de objetivo de control magnético y puede recubrir metales como oro, plata y platino.


Parámetros técnicos del instrumento de pulverización catódica de plasma de magnetrón pequeño:

Nombre del productoInstrumento de pulverización catódica de plasma de magnetrón pequeño de un solo objetivo VTC-16-D
ModeloVTC-16-D
Especificaciones básicas

1. Potencia de entrada del pequeño instrumento de pulverización catódica de plasma con magnetrón: 220 V CA 50/60 Hz

2. Potencia de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio: <1000 W

3. Voltaje de salida del recubridor de pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio: 500 V CC

4. Corriente de pulverización: 0-80 mA, ajustable

5. Tiempo de pulverización: 0-120 s, ajustable

Cámara de pulverización catódica

1. Dimensiones de la cámara de cuarzo: diámetro exterior 166 mm x diámetro interior 150 mm x altura 150 mm

2. Sello: Junta tórica de caucho fluorado

3. Se instala un obturador manual en la tapa de la brida para la prepulverización del objetivo. Un racor de compresión de 6,35 mm de diámetro sirve como puerto de entrada de aire para conectar el tubo de entrada. Una válvula de purga manual llena la cámara de cuarzo con aire.

4. Una malla de acero inoxidable cubre toda la cámara de cuarzo para proteger el plasma.

Small magnetron plasma sputtering instrument

5. El flujo de gas de trabajo en la cámara se controla ajustando la válvula de control de microprecisión en el lado derecho de la carcasa, ajustando así el nivel de vacío dentro de la cámara.

6. La corriente de pulverización se controla ajustando el potenciómetro en el lado derecho de la carcasa.

Magnetron Sputtering CoaterLab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

Cabezal objetivo y material objetivo

1. Cabezal de pulverización catódica de magnetrón de 2 pulgadas sin refrigeración por agua. La temperatura máxima de funcionamiento es de 80 °C. Por encima de 80 °C, perderá su magnetismo y quedará inoperativo.

2. Tiempo de pulverización: ajustable de 1 a 120 segundos

3. Objetivo de cobre estándar incluido.

4. Requisito de tamaño objetivo: φ2" x (0,5-5) mm de espesor

5. Adecuado para la pulverización catódica de Au, Ag, Cu y otros metales (disponibles para su compra en nuestra empresa).

Etapa de muestra de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio

1. Una platina de muestra con altura ajustable, con una distancia ajustable entre la platina de muestra y el objetivo de 25-70 mm.

2. Tamaño de la etapa de muestra: φ2"

3. Calentamiento de muestra opcional, con una temperatura máxima de calentamiento de 500°C.

Small magnetron plasma sputtering instrumentMagnetron Sputtering Coater

Medidor de vacío Pirani

1. Rango de medición: 1 × 10-4 mbar a 1000 mbar (1 × 10-4 a 750 torr)

2. Precisión: 1000 mbar a 20 mbar (30 % de la lectura)

20 a 0,002 mbar (2 % de la lectura)

3. Repetibilidad: 20 a 0,002 mbar (0,000 a 0,002 mbar) 2%)

4. Humedad de funcionamiento: ≤80% a 30°C, ≤50% a 40°C, sin condensación;

5. Temperatura de funcionamiento: 5 °C-60 °C

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Medidor de espesor de película delgada (opcional)

1. En el instrumento se instala un medidor de espesor de película vibratorio de cuarzo de precisión, que permite el monitoreo en tiempo real del espesor de la película con una resolución de 0,10 Å.

2. La pantalla LED permite visualizar e ingresar datos de espesor de película.

Small magnetron plasma sputtering instrumentMagnetron Sputtering Coater

Sistema de vacío (opcional)

1. Modelo: VRD-8

2. Caudal de bombeo: 2,2 L/s

3. Potencia del motor: 370 W

4. Presión máxima: 5 × 10-1 Pa (sin carga)

5. Presión real: ≤ 5 Pa (bombeo mecánico durante 20 minutos en condiciones de frío)

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6. Para niveles de vacío más altos (10-5 toneladas o más), se encuentran disponibles unidades de alto vacío nacionales o importadas.

Small magnetron plasma sputtering instrument

Especificaciones del producto

Dimensiones: 500 mm × 350 mm × 550 mm (largo × ancho × alto)

Peso: aproximadamente 20 kg (sin incluir la bomba de vacío ni el equipo de refrigeración por agua)

Magnetron Sputtering Coater

Requisitos de uso del equipo

1. Se requieren múltiples ciclos de pulverización catódica para lograr el espesor de película deseado.

2. Antes de pulverizar, asegúrese de que el cabezal de pulverización, el objetivo, el sustrato y la platina de muestra estén limpios.

3. Para garantizar una buena adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de pulverizar.

Período de garantía

Garantía de un año y soporte técnico de por vida.

Notas especiales:

1. Los consumibles como elementos calefactores, tubos de cuarzo y crisoles de muestra no están cubiertos por la garantía.

2. Los daños causados por el uso de gases corrosivos y ácidos no están cubiertos por la garantía.

Precauciones

· La presión dentro de la cámara no debe superar los 0,02 MPa (presión relativa).

Debido a que la presión interna del cilindro de gas es relativamente alta, se debe instalar una válvula reductora de presión al introducir gas en el tubo de cuarzo. Para garantizar la seguridad, recomendamos operar con una presión inferior a 0,02 MPa. Para mayor precisión y seguridad, recomendamos adquirir una válvula reductora de presión de nuestra empresa, con un rango de 0,01 MPa a 0,1 MPa.

No recomendamos el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos. Si su proceso requiere el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos, implemente las medidas de protección y a prueba de explosiones adecuadas. Nuestra empresa no se responsabiliza de ningún problema causado por el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos.

CumplimientoLa certificación CE, UL o CSA está disponible a un costo adicional.


Sobre nosotros:

Nuestra empresa cuenta con capacidades independientes de I+D e innovación tecnológica, y nuestros equipos se distinguen por su liderazgo tecnológico y sus avances. Muchos de nuestros productos cuentan con diseños únicos y tecnologías patentadas, superando al 80% de nuestros competidores en la industria de instrumentos de laboratorio.


Si compra nuestros productos para su propio uso, disfrutará de precisión, confiabilidad, conveniencia y eficiencia.


Contamos con numerosos clientes colaboradores, tanto nacionales como internacionales, y mantenemos colaboraciones a largo plazo con ellos. Nuestro objetivo no es simplemente vender productos; también nos esforzamos por mejorar nuestra experiencia y contribuir a las instituciones de investigación.


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