Máquina de pulverización catódica por plasma magnetrón de CC pequeña
1. Este recubridor por pulverización catódica magnetrón de CC de laboratorio está específicamente diseñado para necesidades de recubrimiento de metales y se puede utilizar con una variedad de materiales metálicos.
2. La etapa de muestra de este recubridor por pulverización magnetrónica de CC de laboratorio es ajustable en altura, lo que le permite acomodar muestras de diferentes tamaños.
3. Este recubridor por pulverización catódica magnetrón de CC de laboratorio se puede utilizar opcionalmente con nuestra unidad de alto vacío para lograr niveles de vacío aún mayores.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 10 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción a la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio:
El recubridor por pulverización catódica magnetrónica VTC-16-D es un equipo compacto de pulverización catódica por plasma magnetrónico de CC con un cabezal de objetivo de 2 pulgadas de diámetro y una plataforma de muestra ajustable. Este pequeño instrumento de pulverización catódica por plasma magnetrónico está diseñado principalmente para la producción de películas metálicas. Gracias a su tamaño compacto y su alta rentabilidad, es un sistema de recubrimiento ideal para diversas películas delgadas metálicas.

Características principales de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio:
• El recubridor por pulverización magnetrónica es compacto, sencillo de operar y fácil de usar.
El pequeño instrumento de pulverización catódica por plasma magnetrónico cuenta con un pequeño cabezal de control magnético y puede recubrir metales como oro, plata y platino.
Parámetros técnicos del pequeño instrumento de pulverización de plasma magnetrónico:
| Nombre del producto | Instrumento de pulverización de plasma magnetrónico pequeño de objetivo único VTC-16-D | |
| Modelo | VTC-16-D | |
| Especificaciones básicas | 1. Alimentación eléctrica del pequeño instrumento de pulverización catódica por plasma magnetrón: 220 V CA 50/60 Hz 2. Potencia de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio: <1000 W 3. Tensión de salida de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio: 500 V CC 4. Corriente de pulverización catódica: 0-80 mA, ajustable 5. Tiempo de pulverización catódica: 0-120 s, ajustable | |
| Cámara de pulverización | 1. Dimensiones de la cámara de cuarzo: diámetro exterior 166 mm × diámetro interior 150 mm×Altura 150 mm 2. Junta: Junta tórica de caucho fluorado 3. Se ha instalado una persiana de accionamiento manual en la tapa de la brida para el pre-pulverizado del objetivo. Un racor de compresión de 6,35 mm de diámetro sirve como puerto de entrada de aire para conectar el tubo de entrada de aire. Se utiliza una válvula de purga de aire manual para llenar la cámara de cuarzo con aire. 4. Una malla de acero inoxidable cubre toda la cámara de cuarzo para proteger el plasma.
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5. El flujo de gas de trabajo hacia la cámara se controla ajustando la válvula de control de microprecisión situada en el lado derecho de la carcasa, ajustando así el nivel de vacío dentro de la cámara. 6. La corriente de pulverización se controla ajustando el potenciómetro situado en el lado derecho de la carcasa.
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| Cabezal y material del objetivo | 1. Cabezal de pulverización magnetrónica de 2 pulgadas sin refrigeración por agua. La temperatura máxima de funcionamiento del cabezal es de 80 °C. Por encima de esta temperatura, el cabezal pierde su magnetismo y queda inoperable. 2. Tiempo de pulverización: Ajustable de 1 a 120 segundos 3. Objetivo de cobre estándar incluido 4. Requisito de tamaño objetivo: φ2" x (0,5-5) mm de espesor 5. Adecuado para pulverizar Au, Ag, Cu y otros metales (disponibles para su compra en nuestra empresa). | |
| Etapa de muestra de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio | 1. Una plataforma de muestra con altura ajustable, con una distancia ajustable entre la plataforma de muestra y el objetivo de 25-70 mm. 2. Tamaño de la etapa de muestra: φ2" 3. Calentamiento opcional de la etapa de muestra, con una temperatura máxima de calentamiento de 500 °C.
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| Manómetro de vacío Pirani | 1. Rango de medición: 1 × 10-4 mbar a 1000 mbar (1 × 10-4 a 750 torr) 2. Precisión: de 1000 mbar a 20 mbar (30% de la lectura) 20 a 0,002 mbar (2% de la lectura) 3. Repetibilidad: 20 a 0,002 mbar (0,000 a 0,002 mbar) 2%) 4. Humedad de funcionamiento: ≤80% a 30°C, ≤50% a 40°C, sin condensación; 5. Temperatura de funcionamiento: 5°C-60°C |
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| Medidor de espesor de película delgada (opcional) | 1. En el instrumento se ha instalado un medidor de espesor de película vibratorio de cuarzo de precisión, que permite la monitorización en tiempo real del espesor de la película con una resolución de 0,10 Å. 2. La pantalla LED permite tanto la visualización como la entrada de datos de espesor de la película.
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| Sistema de vacío (opcional) | 1. Modelo: VRD-8 2. Caudal de bombeo: 2,2 L/s 3. Potencia del motor: 370 W 4. Presión máxima: 5 × 10-1Pa (descargado) 5. Presión real: ≤ 5 Pa (bombeo mecánico durante 20 minutos en condiciones de frío) |
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6. Para niveles de vacío más altos (10-5toneladas o más), se encuentran disponibles unidades de alto vacío nacionales o importadas.
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| Especificaciones de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC de laboratorio | Dimensiones: 500 mm × 350 mm × 550 mm (L × A × H) Peso: Aproximadamente 20 kg (sin incluir la bomba de vacío ni el equipo de refrigeración por agua). |
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| Requisitos de uso del equipo | 1. Se requieren múltiples ciclos de pulverización catódica para lograr el espesor de película deseado. 2. Antes de pulverizar, asegúrese de que el cabezal de pulverización, el objetivo, el sustrato y la plataforma de la muestra estén limpios. 3. Para asegurar una buena adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de la pulverización catódica. | |
| Período de garantía | Un año de garantía y soporte técnico de por vida. Notas especiales: 1. Los consumibles como elementos calefactores, tubos de cuarzo y crisoles de muestra no están cubiertos por la garantía. 2. Los daños causados por el uso de gases corrosivos y ácidos no están cubiertos por la garantía. | |
| Precauciones | • La presión dentro de la cámara no debe exceder los 0,02 MPa (presión relativa). Debido a la elevada presión interna de la bombona de gas, es necesario instalar una válvula reductora de presión al introducir el gas en el tubo de cuarzo. Para mayor seguridad, recomendamos operar a una presión inferior a 0,02 MPa. Para una mayor precisión y seguridad, recomendamos adquirir una válvula reductora de presión de nuestra empresa, con un rango de 0,01 MPa a 0,1 MPa. No recomendamos el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos. Si su proceso requiere el uso de estos gases, implemente las medidas de protección y a prueba de explosiones adecuadas. Nuestra empresa no se responsabiliza de los problemas causados por su uso. | |
| Cumplimiento | La certificación CE, UL o CSA están disponibles con un coste adicional. | |
Sobre nosotros:
Si adquiere nuestros productos para su propio uso, disfrutará de precisión, fiabilidad, comodidad y eficiencia.
Ofrecemos servicios personalizados. En nuestro sitio web encontrará una variedad de modelos con distintas especificaciones, lo que le permitirá seleccionar el equipo que mejor se adapte a su proyecto. También puede contactarnos para recibir recomendaciones sobre equipos y obtener una respuesta satisfactoria.
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Tras su compra, le ofrecemos servicio posventa. Nos hacemos totalmente responsables de cualquier fallo imprevisto. Asimismo, estaremos encantados de ayudarle con cualquier duda o pregunta que pueda tener durante el uso del producto.
Los requisitos de aplicación de los instrumentos de pulverización catódica de película delgada por plasma son cada vez más diversos en distintos sectores. Gracias a nuestra sólida capacidad de I+D y a nuestro profundo conocimiento del sector, hemos desarrollado este instrumento de pulverización catódica de película delgada por plasma, eficiente, preciso y estable, para ayudar a nuestros clientes a mejorar la calidad de sus productos, reducir los costes de producción y sentar las bases para el desarrollo futuro de la tecnología de película delgada.
En lo que respecta al equipo, le proporcionamos equipo rigurosamente inspeccionado y probado.
En lo que respecta al servicio, ofrecemos servicios integrales para aumentar su confianza.
En lo que respecta a la colaboración, esperamos una cooperación a largo plazo con ustedes, mejorando nuestro nivel técnico y apoyando plenamente sus proyectos.










