Página interior

Máquina de pulverización catódica de plasma de 3 objetivos

1. Este recubridor de plasma por pulverización catódica con 3 objetivos rotatorios presenta un diseño compacto, lo que ahorra espacio en el laboratorio y permite colocarlo en un escritorio.
2. Este recubridor de plasma por pulverización catódica con 33 objetivos rotatorios cuenta con un panel de control PLC, lo que hace que la operación sea más conveniente e intuitiva, reduciendo los errores experimentales.
3. Nuestro recubridor de plasma por pulverización catódica con 3 objetivos rotatorios se desarrolló a lo largo de años de experiencia, satisfaciendo plenamente las necesidades de los clientes y ofreciendo resultados superiores.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 10 días laborables
  • 50 juegos
  • información

Introducción de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma:

El equipo de pulverización catódica de plasma de 3 objetivos VTC-16-3HD es un sistema compacto de pulverización catódica de plasma de película fina con certificación CE, capaz de recubrir sustratos con un diámetro máximo de 5 cm. Este equipo cuenta con un panel de control táctil y puede pulverizar tres materiales objetivo diferentes. Para películas finas, el tiempo de pulverización puede acortarse; para películas más gruesas, puede aumentarse. El equipo de pulverización catódica de plasma de 3 objetivos VTC-16-D está diseñado principalmente para la producción de películas metálicas finas, con un área de producción de hasta 10 cm. Su tamaño compacto y su alta rentabilidad lo convierten en un sistema de recubrimiento ideal para una variedad de películas metálicas finas.

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

Características principales de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma:

1. El equipo de pulverización de plasma de 3 objetivos está equipado con un panel de control PLC, una pantalla táctil de 4,3 pulgadas y control de temperatura PID. 

2. Los parámetros controlables de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma incluyen el nivel de vacío, la corriente, la posición del objetivo y la temperatura de calentamiento del sustrato.

3. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma se puede utilizar con una bomba de vacío y abrazaderas de liberación rápida de fuelle de acero inoxidable KFD25.

4. La máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma tiene certificación CE.


Parámetros técnicos de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma:

Nombre del productoEquipo de pulverización catódica de plasma de 3 objetivos VTC-16-3HD
ModeloVTC-16-3HD 3
Parámetros principales

1. Potencia de entrada del recubridor de plasma por pulverización catódica de 3 objetivos rotatorios: CA 220 V 50/60 Hz

2. Corriente de pulverización catódica del recubridor de plasma de 3 objetivos rotatorios: 0-40 mA, ajustable

3. Potencia: <1kW

4. Voltaje de salida: Máximo 1680 V CC

Cámara de pulverización catódica

1. Material: Cámara de cuarzo

2. Dimensiones: diámetro exterior 166 mm × diámetro interior 150 mm × 150 mm

3. Sellado: junta tórica

4. Se instala un deflector manual en la tapa de la brida para la prepulverización del objetivo. Un racor de compresión de φ 6,35 mm sirve como puerto de entrada de aire para la conexión a la tubería de entrada. Se utiliza una válvula de purga manual para inyectar aire en la cámara de cuarzo.

5. Una cubierta de malla de acero inoxidable cubre toda la cámara de cuarzo para proteger el plasma.

plasma sputtering coating machine

6. El caudal del gas de trabajo que ingresa a la cámara de cuarzo se controla ajustando la válvula de control de microprecisión en el lado derecho de la carcasa, ajustando así el nivel de vacío dentro de la cámara.

7. La corriente de pulverización se controla ajustando el potenciómetro en el lado derecho de la carcasa.

3-target plasma sputtering equipment3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

Objetivo

1. Tres objetivos de cobre son estándar.

2. Dimensiones del objetivo: φ47 x (0,1-3) mm de espesor.

3. Nuestra empresa ofrece otros objetivos metálicos a la venta. Para más detalles, póngase en contacto con nuestro departamento de ventas.

4. Se instala un deflector operado manualmente para pulverizar previamente el objetivo.

Etapa de muestra

1. Una platina de muestra giratoria de 50 mm con tornillos en la columna de soporte de la platina de muestra para ajustar la altura de la platina de muestra.

2. Ángulo de rotación de la etapa de muestra: 0/120/240 grados.

3. La distancia entre el objetivo y la platina de muestra es ajustable de 20 a 70 mm.

4. La platina de muestra se puede calentar opcionalmente, con una temperatura máxima de 500°C.

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Panel de control

Un panel de control con pantalla táctil integrado PLC de 1,4" controla el vacío, la corriente y el tiempo de pulverización de la muestra.

2. Una función de registro de datos registra parámetros del proceso como el vacío, la corriente y el tiempo de pulverización catódica para cada ejecución de pulverización catódica, lo que facilita a los clientes el acceso a los datos.

3-target plasma sputtering equipment
Sistema de vacío (opcional)

1. Modelo: VRD-8

2. Caudal de bombeo: 2,2 L/s

3. Potencia del motor: 370 W

4. Presión máxima: 5 × 10-1 Pa (sin carga).

5. Presión real: ≤ 5 Pa (20 minutos de bombeo mecánico en condiciones de frío).

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

6. Si desea obtener un mayor grado de vacío (10-5 o mejor), puede optar por comprar unidades de alto vacío nacionales o importadas.

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Presupuesto

Dimensiones: 460 mm × 400 mm × 500 mm (largo × ancho × alto)

Peso: aproximadamente 20 kg

3-target plasma sputtering equipment
Instrucciones

1. Se requieren múltiples ciclos de pulverización catódica para lograr el espesor de película deseado.

2. Antes de pulverizar, asegúrese de que el cabezal de pulverización, el objetivo, la muestra y la platina de muestra estén limpios.

3. Para garantizar una buena adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de pulverizar. Puede utilizar nuestro equipo de limpieza para este fin.

4. Este equipo se puede utilizar para realizar pulverización catódica en una caja de guantes (atmósfera de Ar o N2).

Precauciones

1. La presión de la cámara no debe superar los 0,02 MPa (presión relativa).

2. Debido a la alta presión dentro del cilindro de gas, se debe instalar una válvula reductora de presión al introducir gas en el tubo de cuarzo. Para garantizar la seguridad, recomendamos operar a una presión inferior a 0,02 MPa. Recomendamos adquirir una válvula reductora de presión de nuestra empresa, con un rango de 0,01 MPa a 0,1 MPa, para mayor precisión y seguridad.

3. No recomendamos el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos. Si su proceso requiere el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos, implemente las medidas de protección y a prueba de explosiones adecuadas. Nuestra empresa no se responsabiliza de los problemas derivados del uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos.

CumplimientoLa certificación CE, UL o CSA está disponible a un costo adicional.


Sobre nosotros:

Al mismo tiempo, nuestra línea de productos cubre múltiples campos de equipos de laboratorio, sierras de corte y corte, máquinas de pulido y rectificado, sistemas de fusión, hornos de laboratorio, etc. Para sus diferentes direcciones de investigación, tenemos el equipo correspondiente para ayudarlo en su proyecto y mejorar el rendimiento real y la precisión del proyecto.


También ofrecemos servicios personalizados. Debido a las variables de cada experimento, podemos crear diseños o recomendaciones adicionales según su situación. Consulte con nuestro equipo para obtener más detalles.


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