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Máquina de pulverización de plasma de 3 objetivos

1. Este recubridor de pulverización de plasma de 3 objetivos rotatorios cuenta con un diseño compacto, lo que ahorra espacio en el laboratorio y permite colocarlo sobre un escritorio.
2. Este recubridor de pulverización de plasma de objetivo rotatorio de 33 pulgadas cuenta con un panel de control PLC, lo que hace que la operación sea más conveniente e intuitiva y reduce los errores experimentales.
3. Nuestro recubridor de pulverización de plasma de 3 objetivos rotatorios se ha desarrollado a través de años de experiencia, satisfaciendo plenamente las necesidades del cliente y ofreciendo resultados superiores.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 10 días laborables
  • 50 juegos
  • información

Introducción a la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma:

El equipo de pulverización catódica por plasma VTC-16-3HD de 3 objetivos es un sistema compacto con certificación CE para la deposición de películas delgadas por plasma, capaz de recubrir sustratos con un diámetro máximo de 2 pulgadas. Este equipo cuenta con un panel de control táctil y puede pulverizar tres materiales diferentes. Para películas delgadas, el tiempo de pulverización se puede reducir; para películas más gruesas, se puede aumentar. El equipo VTC-16-D de 3 objetivos está diseñado principalmente para la producción de películas metálicas delgadas, con un área de producción de hasta 4 pulgadas. Su tamaño compacto y su alta rentabilidad lo convierten en un sistema de recubrimiento ideal para una variedad de películas metálicas delgadas.

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater

Características principales de la máquina de recubrimiento por pulverización de plasma:

1. El equipo de pulverización de plasma de 3 objetivos está equipado con un panel de control PLC, una pantalla táctil de 4,3 pulgadas y control de temperatura PID. 

2. Los parámetros controlables de la máquina de recubrimiento por pulverización de plasma incluyen el nivel de vacío, la corriente, la posición del objetivo y la temperatura de calentamiento del sustrato.

3. La máquina de recubrimiento por pulverización de plasma se puede utilizar con una bomba de vacío y abrazaderas de liberación rápida de fuelle de acero inoxidable KFD25.

4. La máquina de recubrimiento por pulverización de plasma cuenta con la certificación CE.


Parámetros técnicos de la máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma:

Nombre del productoEquipo de pulverización de plasma de 3 objetivos VTC-16-3HD
ModeloVTC-16-3HD 3
Parámetros principales

1. Alimentación eléctrica del recubridor por pulverización catódica de plasma de 3 objetivos rotatorios: CA 220 V 50/60 Hz

2. Corriente de pulverización catódica del recubridor de plasma con 3 objetivos rotatorios: 0-40 mA, ajustable

3. Potencia: <1kW

4. Tensión de salida: Máximo 1680 V CC

Cámara de pulverización

1. Material: Cámara de cuarzo

2. Dimensiones: Diámetro exterior 166 mm × Diámetro interior 150 mm × 150 mm

3. Sellado: Junta tórica

4. Se ha instalado un deflector de accionamiento manual en la tapa de la brida para la pulverización previa del objetivo. Un racor de compresión de φ 6,35 mm sirve como puerto de entrada de aire para la conexión al tubo de entrada. Se utiliza una válvula de purga de aire manual para inyectar aire en la cámara de cuarzo.

5. Una cubierta de malla de acero inoxidable cubre toda la cámara de cuarzo para proteger el plasma.

plasma sputtering coating machine

6. El caudal del gas de trabajo que entra en la cámara de cuarzo se controla ajustando la válvula de control de microprecisión situada en el lado derecho de la carcasa, ajustando así el nivel de vacío dentro de la cámara.

7. La corriente de pulverización se controla ajustando el potenciómetro situado en el lado derecho de la carcasa.

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Objetivo

1. Tres objetivos de cobre son estándar.

2. Dimensiones objetivo: φ47 x (0,1-3) mm de espesor.

3. Disponemos de otros objetivos metálicos para su compra en nuestra empresa; póngase en contacto con nuestro departamento de ventas para obtener más información.

4. Se instala un deflector operado manualmente para la pulverización previa del objetivo.

Etapa de muestra

1. Una plataforma de muestra giratoria de 50 mm con tornillos en la columna de soporte de la plataforma de muestra para ajustar la altura de la plataforma de muestra.

2. Ángulo de rotación de la plataforma de muestra: 0/120/240 grados.

3. La distancia entre el objetivo y la plataforma de la muestra es ajustable de 20 a 70 mm.

4. La plataforma de la muestra se puede calentar opcionalmente, con una temperatura máxima de 500 °C.

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Panel de control

Un panel de control con pantalla táctil integrado PLC de 1,4" controla el vacío, la corriente y el tiempo de pulverización de la muestra.

2. Una función de registro de datos registra parámetros del proceso como vacío, corriente y tiempo de pulverización para cada ejecución de pulverización, lo que facilita a los clientes el acceso a los datos.

3-target plasma sputtering equipment
Sistema de vacío (opcional)

1. Modelo: VRD-8

2. Caudal de bombeo: 2,2 L/s

3. Potencia del motor: 370 W

4. Presión máxima: 5 × 10-1 Pa (sin carga).

5. Presión real: ≤ 5 Pa (20 minutos de bombeo mecánico en condiciones frías).

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6. Si desea obtener un grado de vacío más alto (10-5 toor o mejor), puede optar por comprar unidades de alto vacío nacionales o importadas.

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Presupuesto

Dimensiones: 460 mm × 400 mm × 500 mm (largo × ancho × alto)

Peso: Aproximadamente 20 kg

3-target plasma sputtering equipment
Instrucciones

1. Se requieren múltiples ciclos de pulverización catódica para lograr el espesor de película deseado.

2. Antes de pulverizar, asegúrese de que el cabezal de pulverización, el objetivo, la muestra y la plataforma de la muestra estén limpios.

3. Para asegurar una buena adhesión entre la película y el sustrato, limpie la superficie del sustrato antes de la pulverización catódica. Nuestro equipo de limpieza puede utilizarse para este fin.

4. Este equipo se puede utilizar para pulverización catódica en una caja de guantes (atmósfera de Ar o N2).

Precauciones

1. La presión de la cámara no debe exceder los 0,02 MPa (presión relativa).

2. Debido a la alta presión dentro del cilindro de gas, es necesario instalar una válvula reductora de presión al introducir el gas en el tubo de cuarzo. Para garantizar la seguridad, recomendamos operar a una presión inferior a 0,02 MPa. Recomendamos adquirir una válvula reductora de presión de nuestra empresa, con un rango de 0,01 MPa a 0,1 MPa, para mayor precisión y seguridad.

3. No recomendamos el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos. Si su proceso requiere el uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos, implemente las medidas de protección y a prueba de explosiones adecuadas. Nuestra empresa no se responsabiliza de los problemas derivados del uso de gases inflamables, explosivos o tóxicos.

CumplimientoLa certificación CE, UL o CSA están disponibles con un coste adicional.


Sobre nosotros:

Al mismo tiempo, nuestra línea de productos abarca múltiples campos de equipos de laboratorio, sierras de corte y troceado, máquinas de rectificado y pulido, sistemas de fusión, hornos de laboratorio, etc. Para sus diferentes líneas de investigación, contamos con el equipo correspondiente para ayudar en su proyecto y mejorar el rendimiento y la precisión del mismo.


También ofrecemos servicios personalizados. Debido a las variables de cada experimento, podemos realizar diseños o recomendaciones adicionales según su situación. Consulte con nuestro equipo para obtener más información.


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