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Recubridor de película de fundición de cinta compacta con mandril de vacío 300 mm × 150 mm
El recubridor automático MSK-AFA-I se usa ampliamente en diversas investigaciones de recubrimientos a alta temperatura, como películas cerámicas, películas de cristal, películas de materiales para baterías y nanopelículas especiales, y puede adaptarse al desarrollo futuro de la tecnología de formación de películas en condiciones de alta temperatura. El sustrato se fija mediante adsorción al vacío, de modo que no se produce ningún fenómeno de arrugas en el sustrato durante el proceso de recubrimiento y el recubrimiento es aún más suave. El ancho de la película permanece sin cambios y el espesor de la película se puede ajustar según el micrómetro situado encima de la cuchilla doctora.
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Recubridor de película de fundición de cinta compacta con mandril de vacío 600 mm × 250 mm
El recubridor automático MSK-AFA-II-VC se usa ampliamente en diversas investigaciones de recubrimientos a alta temperatura, como películas cerámicas, películas de cristal, películas de materiales para baterías y nanopelículas especiales. El sustrato se fija mediante adsorción al vacío, de modo que no se produce ningún fenómeno de arrugas en el sustrato durante el proceso de recubrimiento y el recubrimiento es aún más suave. El ancho de la película permanece sin cambios y el espesor de la película se puede ajustar de acuerdo con el micrómetro por encima de la cuchilla doctora.
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Recubridor de película de fundición de cinta compacta con cubierta calefactora superior
El recubridor de fundición compacto MSK-AFA-III con función de secado automático logra un efecto de recubrimiento suave y uniforme al avanzar/impulsar/empujar el aplicador de película de precisión a una velocidad constante. Después del recubrimiento, la cubierta superior puede calentar y secar la película, y la precisión del control de temperatura es de ±1°C.
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Recubridor de película de fundición de cinta compacta con lecho de vacío calentable
El recubridor de fundición compacto MSK-AFA-IIID con función de secado automático adopta calentamiento inferior y está diseñado y desarrollado por nuestra empresa. El equipo adopta el vacío inferior para absorber las muestras y tiene función de calentamiento inferior. La temperatura de calentamiento puede alcanzar hasta 120 ℃ y la función de horneado de la película se realiza durante el proceso de recubrimiento, de modo que la película se puede secar rápidamente.
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Recubridor de película de fundición de cinta compacta con cubierta UV superior
El recubridor de fundición UV MSK-AFA-IIID-UV con función de secado automático adopta calentamiento inferior y está diseñado y desarrollado por nuestra empresa. La cubierta superior adopta una fuente de luz ultravioleta y es especialmente adecuada para materiales sensibles a la luz ultravioleta, que pueden solidificar rápidamente la película recubierta. Además, la lámpara UV también tiene una función de polimerización, que puede polimerizar el monómero en una película de polímero.
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120ºC Máx. Recubridor de película con lecho de vacío calentable
El recubridor de fundición compacto MSK-AFA-IID con función de secado automático se utiliza principalmente para recubrir películas líquidas o coloidales en laboratorio. El equipo adopta el vacío inferior para absorber las muestras y tiene función de calentamiento inferior. La temperatura de calentamiento puede alcanzar hasta 120 ℃ y la función de horneado de la película se realiza durante el proceso de recubrimiento, de modo que la película se puede secar rápidamente.
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Recubrimiento de película de fundición de cinta grande con cama de vacío calentable
El recubridor compacto MSK-AFA-L1000 con función de secado automático se utiliza principalmente para recubrir películas líquidas o coloidales en laboratorio. El equipo adopta el vacío inferior para absorber las muestras y tiene función de calentamiento inferior. La temperatura de calentamiento puede alcanzar hasta 120 ℃ y la función de horneado de la película se realiza durante el proceso de recubrimiento, de modo que la película se puede secar rápidamente.
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Sistema de deposición química de vapor mejorado por plasma de alto vacío (PECVD)
El PECVD capacitivo de placas paralelas es una tecnología que utiliza plasma para activar gases reactivos para promover reacciones químicas en la superficie del sustrato o en el espacio cercano a la superficie para formar películas de estado sólido. El principio básico de la tecnología de deposición química de vapor por plasma es que bajo la acción de un campo eléctrico de CC o de alta frecuencia, el gas fuente se ioniza para formar plasma y el plasma de baja temperatura se utiliza como fuente de energía, se obtiene una cantidad adecuada de gas reactivo. Se introduce y la descarga de plasma se utiliza para activar el gas reactivo y formar una deposición química de vapor.
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Máquina de recubrimiento de Flim de fundición de cinta grande con área de recubrimiento 1100 mm × 550 mm
El recubridor automático MSK-AFA-L1100 se usa ampliamente en diversas investigaciones de recubrimientos a alta temperatura, como películas cerámicas, películas de cristal, películas de materiales para baterías y nanopelículas especiales. La longitud de la película se puede controlar según la distancia de recorrido de la rasqueta, cuyo límite es de hasta 1025 mm. Se pueden agregar equipos de secado relacionados a esta máquina de acuerdo con los requisitos del cliente para satisfacer más necesidades de recubrimiento.
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