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Del 25 al 28 de marzo de 2025, se inauguró solemnemente el VI Foro Planetario Juvenil en Tunxi, Anhui. Este foro fue organizado por el Consejo del Foro Planetario Juvenil y la Alianza Científica Planetaria de la Universidad de China, y acogido por la Facultad de Ciencias de la Tierra y el Espacio de la Universidad de Ciencia y Tecnología de China. Expuso dieciséis temas (incluidos cinco proyectos especiales) y atrajo a numerosos jóvenes académicos y representantes empresariales de China y del extranjero.
Del 21 al 23 de marzo de 2025, se celebró con éxito en Zhengzhou, provincia de Henan, la "Conferencia de Materiales Estructurales de China 2025 y la XI Conferencia Nacional sobre Tecnología de Preparación, Procesamiento y Aplicación de Materiales Estructurales de Metales No Ferrosos". Esta conferencia promovió el progreso académico, la innovación tecnológica y el desarrollo industrial en el sector de los materiales estructurales de mi país, impulsando el desarrollo de materiales funcionales de alto rendimiento, compuestos y estructuralmente integrados, fortaleciendo la integración de la industria, el mundo académico, la investigación y la aplicación, y facilitando el intercambio de logros científicos y tecnológicos innovadores y sus aplicaciones en el campo de los materiales estructurales en los últimos años.
El surgimiento y la aplicación de la tecnología de pulverización catódica han pasado por varias etapas. Tras más de 30 años de desarrollo, la pulverización catódica por magnetrón se ha convertido en un método irremplazable para películas delgadas ópticas, eléctricas y otras funciones. ¿Cuánto sabe sobre ella?
Partiendo de la pulverización catódica básica con magnetrón, se introduce un entorno de crecimiento en alto vacío y alta temperatura, y se combina la tecnología de plasma para mejorar la eficiencia de la reacción de deposición reactiva, logrando así la epitaxia de la película de pulverización catódica con magnetrón. La película preparada en estas condiciones de alto vacío presenta una mejor orientación reticular y propiedades cristalinas excepcionales. Tiene una amplia gama de aplicaciones en materiales cuánticos superconductores, ferroeléctricos, piezoeléctricos, termoeléctricos y otros campos. El alto vacío ayuda a reducir la influencia de las impurezas y a garantizar que las partículas pulverizadas no reaccionen adversamente con otros gases durante el proceso de deposición.
El 11 de marzo de 2025, se inauguró oficialmente la esperada Expo Fotónica de Shanghái Múnich 2025 en el Nuevo Centro Internacional de Exposiciones de Shanghái. La exposición se centra en campos de vanguardia como la tecnología láser, la fabricación óptica, la detección inteligente y la fotónica biomédica, mostrando avances en la aplicación de la industria optoelectrónica en sectores emergentes como las nuevas energías, los semiconductores y la economía de baja altitud. Como evento importante de la industria óptica mundial, la exposición de este año coincide con la celebración de su 20.º aniversario, atrayendo a empresas y figuras clave del sector de todo el mundo para debatir las nuevas tendencias de desarrollo y las perspectivas de aplicación de la tecnología óptica.
APE 2025 es una de las exposiciones de materiales avanzados y tecnología energética más grandes e influyentes de Asia, que reúne a las principales empresas e instituciones de investigación científica del mundo. En la feria, nuestro stand recibió a cientos de visitantes, incluyendo profesionales de prestigiosas universidades, institutos de investigación científica y empresas, convirtiéndonos en uno de los focos de atención de la exposición.
Las películas delgadas desiguales provocarán desviaciones en los datos experimentales y afectarán la precisión de los resultados de la investigación. La tecnología tradicional de recubrimiento de película se ve fácilmente afectada por las técnicas operativas, la precisión del equipo y los factores ambientales, y es difícil lograr un recubrimiento uniforme en un área grande.
La nueva generación de máquinas de pirólisis por pulverización asistida por llama ofrece ventajas únicas: alta eficiencia, precisión y exactitud. La tecnología de deposición de recubrimiento de alto nivel ofrece una mejor opción para diversos campos. Combinando alta eficiencia y precisión: El producto adopta tecnología avanzada de pirólisis por pulverización para lograr una rápida descomposición y deposición. Gracias a esta ventaja, el producto puede mejorar considerablemente la uniformidad y la adhesión del recubrimiento para satisfacer las diferentes necesidades de cada aplicación.
Las nuevas energías, la electrónica flexible, la biomedicina y otros campos se están desarrollando cada vez más rápido. Como uno de los procesos centrales, la tecnología de recubrimiento de precisión se enfrenta a nuevos desafíos. En el caso de la tecnología de recubrimiento, se imponen mayores exigencias en cuanto a precisión, estabilidad y adaptabilidad de los materiales de los equipos. Los equipos tradicionales aún presentan muchos problemas en cuanto a uniformidad y adaptabilidad, lo que dificulta su cumplimiento por parte de instituciones o empresas de investigación científica.