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El surgimiento y la aplicación de la tecnología de pulverización catódica han pasado por varias etapas. Tras más de 30 años de desarrollo, la pulverización catódica por magnetrón se ha convertido en un método irremplazable para películas delgadas ópticas, eléctricas y otras funciones. ¿Cuánto sabe sobre ella?
Partiendo de la pulverización catódica básica con magnetrón, se introduce un entorno de crecimiento en alto vacío y alta temperatura, y se combina la tecnología de plasma para mejorar la eficiencia de la reacción de deposición reactiva, logrando así la epitaxia de la película de pulverización catódica con magnetrón. La película preparada en estas condiciones de alto vacío presenta una mejor orientación reticular y propiedades cristalinas excepcionales. Tiene una amplia gama de aplicaciones en materiales cuánticos superconductores, ferroeléctricos, piezoeléctricos, termoeléctricos y otros campos. El alto vacío ayuda a reducir la influencia de las impurezas y a garantizar que las partículas pulverizadas no reaccionen adversamente con otros gases durante el proceso de deposición.
APE 2025 es una de las exposiciones de materiales avanzados y tecnología energética más grandes e influyentes de Asia, que reúne a las principales empresas e instituciones de investigación científica del mundo. En la feria, nuestro stand recibió a cientos de visitantes, incluyendo profesionales de prestigiosas universidades, institutos de investigación científica y empresas, convirtiéndonos en uno de los focos de atención de la exposición.
La nueva generación de máquinas de pirólisis por pulverización asistida por llama ofrece ventajas únicas: alta eficiencia, precisión y exactitud. La tecnología de deposición de recubrimiento de alto nivel ofrece una mejor opción para diversos campos. Combinando alta eficiencia y precisión: El producto adopta tecnología avanzada de pirólisis por pulverización para lograr una rápida descomposición y deposición. Gracias a esta ventaja, el producto puede mejorar considerablemente la uniformidad y la adhesión del recubrimiento para satisfacer las diferentes necesidades de cada aplicación.
Las nuevas energías, la electrónica flexible, la biomedicina y otros campos se están desarrollando cada vez más rápido. Como uno de los procesos centrales, la tecnología de recubrimiento de precisión se enfrenta a nuevos desafíos. En el caso de la tecnología de recubrimiento, se imponen mayores exigencias en cuanto a precisión, estabilidad y adaptabilidad de los materiales de los equipos. Los equipos tradicionales aún presentan muchos problemas en cuanto a uniformidad y adaptabilidad, lo que dificulta su cumplimiento por parte de instituciones o empresas de investigación científica.
Estado de la industria: El mercado exige cada vez más precisión y eficiencia en las máquinas de recubrimiento y evoluciona hacia la miniaturización, la eficiencia y la inteligencia. También aumenta su aplicación en la industria electrónica y en los nuevos campos energéticos.
Puede satisfacer diversas necesidades: La máquina de recubrimiento es de tamaño pequeño y más adecuada para escenarios como laboratorios. También es adecuada para una variedad de materiales. Durante el almacenamiento diario de la máquina de recubrimiento de velocidad continua, el ambiente debe ser seco, libre de polvo y bien ventilado, evitando la luz solar directa o áreas de alta temperatura y alta humedad.
El recubridor por pulverización catódica de plasma de tres objetivos es un dispositivo de alta tecnología que se utiliza ampliamente en la ciencia de los materiales, la investigación física y otros campos. Para garantizar que los usuarios puedan utilizar este dispositivo de forma correcta y eficaz, a continuación se detalla el método de uso:
En el campo de la ciencia de los materiales modernos y el análisis microscópico, la tecnología de pulverización catódica de plasma se utiliza ampliamente en la deposición de películas delgadas. Nuestra máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma de un solo objetivo es eficiente y precisa en aplicaciones prácticas. También simplifica la operación de los operadores con su alto rendimiento, sentando las bases en la industria.
La tecnología de los microscopios electrónicos sigue avanzando y los microscopios electrónicos de barrido (SEM) se utilizan cada vez más en la ciencia de los materiales, la biología y la nanotecnología. Para garantizar la calidad de las imágenes de SEM, se requieren recubrimientos de película de carbono o metal de alta calidad durante la preparación de la muestra. Los equipos de recubrimiento tradicionales a menudo enfrentan problemas como un funcionamiento complejo y capas de película desiguales, lo que genera muchos problemas a los investigadores científicos. Cómo mejorar la eficiencia y la conveniencia de la preparación de la muestra al tiempo que se garantiza la calidad de la capa de película se ha convertido en el foco de atención del personal relevante.
Nuestra máquina de recubrimiento por inmersión programable PTL-MM01 de Shenyang Kejing utiliza un sistema de control de un solo chip de alta precisión desarrollado por nosotros mismos, que puede proporcionar capacidades de control precisas y estables. La velocidad de elevación y el recorrido del equipo se pueden configurar según las necesidades, y mantiene un funcionamiento suave y preciso durante la operación. Además, los usuarios también pueden ajustar la dirección de elevación a través de botones manuales para lograr un funcionamiento más flexible. Entonces, ¿cómo podemos hacer un buen uso de la máquina de recubrimiento por elevación para completar las tareas de trabajo de manera más eficiente?