¿Cómo la máquina de recubrimiento por evaporación de carbono y pulverización de plasma mejora la eficiencia de preparación de muestras?
La tecnología de los microscopios electrónicos sigue avanzando y los microscopios electrónicos de barrido (SEM) se utilizan cada vez más en la ciencia de los materiales, la biología y la nanotecnología. Para garantizar la calidad de las imágenes de SEM, se requieren recubrimientos de película de carbono o metal de alta calidad durante la preparación de la muestra. Los equipos de recubrimiento tradicionales a menudo enfrentan problemas como un funcionamiento complejo y capas de película desiguales, lo que genera muchos problemas a los investigadores científicos. Cómo mejorar la eficiencia y la conveniencia de la preparación de la muestra al tiempo que se garantiza la calidad de la capa de película se ha convertido en el foco de atención del personal relevante.
Nuestro GSL-1100X-SPC-16CMáquina de recubrimiento por evaporación de carbono y pulverización catódica de plasmaComo equipo multifuncional profesional, integra funciones de pulverización iónica y evaporación térmica de película de carbono. No solo es fácil de operar, sino que también tiene excelentes efectos de formación de película, que pueden satisfacer las necesidades de una variedad de preparaciones de muestras.
Máquina de recubrimiento por evaporación de carbono y pulverización catódica de plasmaAdopta una tecnología de descarga avanzada, combinada con circuitos de control automático, que pueden controlar con precisión la corriente de ionización de presión de vacío y la selección de gas, de modo que la deposición de la película sea uniforme, rápida y controlable, satisfaciendo las necesidades de diferentes laboratorios. El equipo también está especialmente diseñado con corriente de pulverización catódica ajustable y presión de cámara de vacío. Los usuarios pueden controlar de manera flexible el equipo de acuerdo con diferentes necesidades para optimizar aún más el proceso de preparación de muestras.
Al mismo tiempo,pagMáquina de recubrimiento por evaporación de carbono y pulverización catódica lasmaAdmite una variedad de materiales objetivo, incluidos oro, indio, plata, platino y otros materiales objetivo, que son particularmente adecuados para la pulverización de oro o la evaporación de oro y la evaporación de carbono en la superficie de las muestras de microscopio electrónico de barrido. Durante el uso, se puede obtener un recubrimiento de partículas más finas, y la parte de evaporación térmica también puede depositar rápidamente una película de carbono de alta calidad de una manera más uniforme y delicada, lo que mejora en gran medida la calidad de la superficie de la muestra y proporciona una base de preparación de muestra ideal para varias tareas.
Para simplificar aún más la operación, el producto también está equipado con un botón de inicio manual. Los usuarios pueden preestablecer la presión de la cámara de vacío y la corriente de pulverización para evitar daños innecesarios a la película. Además, el mecanismo de protección de vacío puede evitar que el equipo se cortocircuite debido al bajo vacío, lo que proporciona una garantía para el funcionamiento seguro del equipo.
Ya sea que se encuentre en un instituto de investigación científica, un laboratorio universitario o en el campo de la investigación industrial de alto nivel, este producto puede satisfacer sus necesidades de equipo, estable, seguro y eficiente. Le invitamos a consultar el producto, nuestro equipo de atención al cliente estará a su servicio en cualquier momento.