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Compacto y eficiente, un equipo de recubrimiento imprescindible para los laboratorios
En el campo de la ciencia de los materiales modernos y el análisis microscópico, la tecnología de pulverización catódica de plasma se utiliza ampliamente en la deposición de películas delgadas.Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma de un solo objetivoEs eficiente y preciso en aplicaciones prácticas. Además, simplifica la operación de los operadores con su alto rendimiento, sentando una base en la industria.
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma de un solo objetivoPuede lograr un recubrimiento por pulverización catódica de varios metales, como oro, indio, platino, plata, etc., y su altura es ajustable. Puede recubrir 8 muestras de SEM al mismo tiempo; el producto puede proporcionar una excelente uniformidad y pureza del recubrimiento al tiempo que garantiza la calidad de la capa de película.
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma de un solo objetivoEstá equipado con un medidor de vacío y un medidor de corriente de pulverización catódica. Los usuarios pueden monitorear el estado de trabajo en tiempo real y cada paso de la operación se lleva a cabo en las mejores condiciones. Al ajustar el controlador de corriente de pulverización catódica y la válvula de aire de micro vacío, el operador puede controlar con precisión la presión y la corriente de ionización de la cámara de vacío para obtener el efecto de recubrimiento ideal.
Nuestra empresa ha estado diseñando y produciendo esteMáquina de recubrimiento por pulverización catódica de plasma de un solo objetivoDurante muchos años, contamos con tecnología de alto nivel, personal experimentado y un servicio atento. Si está interesado en nuestros productos, no dude en contactarnos.