Sistema de deposición láser pulsado esférico
Este sistema es un equipo de investigación y desarrollo para la deposición láser pulsada esférica (PLD). La tecnología de deposición láser pulsada es de uso extendido y permite preparar películas delgadas de diversas sustancias, como metales, semiconductores, óxidos, nitruros, carburos, boruros, siliciuros, sulfuros y fluoruros. Incluso se utiliza para preparar películas de materiales de síntesis compleja, como diamante y nitruro cúbico.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 44 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción del producto
ElSistema de deposición láser pulsada esférica (PLD)Es una plataforma de investigación y desarrollo de alto rendimiento diseñada para la fabricación avanzada de películas delgadas. La deposición por láser pulsado (PLD) es una técnica en la que un haz láser de alta energía se enfoca sobre una pequeña área del material objetivo. La intensa densidad de energía vaporiza o ioniza parte del objetivo, lo que provoca que el material expulsado se desplace hacia el sustrato, donde se condensa para formar una película delgada.
Entre los diversos métodos de preparación de películas delgadas, la deposición láser pulsada (PLD) se ha aplicado ampliamente para depositar una gran variedad de materiales, incluidos metales, semiconductores, óxidos, nitruros, carburos, boruros, siliciuros, sulfuros y fluoruros. También permite fabricar películas de materiales que, por otros medios, son difíciles de sintetizar, como el diamante y el nitruro de boro cúbico (c-BN).
Elsistema PLD esféricoPresenta un diseño de cámara de vacío esférica y utiliza pulsos láser de alta energía (potencia < 4 kW) para la evaporación precisa del objetivo, lo que permite la deposición uniforme de películas delgadas de metales, óxidos y nitruros. Su capacidad de alto vacío garantiza una pureza excepcional de la película. El conjunto de objetivo giratorio de cuatro posiciones permite la deposición secuencial de múltiples materiales sin romper el vacío.
Construido con una cámara de acero inoxidable equipada con una ventana de observación y una entrada de gas controlada por MFC, el sistema permite realizar experimentos con materiales refractarios como el diamante y los nitruros cúbicos. Este equipo resulta idóneo para universidades e institutos de investigación dedicados a estudios de alta gama sobre películas delgadas, en particular aquellos que requieren un control riguroso de la composición y la microestructura de la película.
Características principales
1. Diseño de cámara de vacío esférica:Fabricado en acero inoxidable 304 con soldadura TIG, que proporciona un diámetro de cámara efectivo de Φ300 mm. Equipado con una ventana de observación visible para la monitorización del experimento en tiempo real.
2. Rendimiento de ultra alto vacío:Logra un vacío máximo extremadamente alto, una velocidad de bombeo rápida y una baja tasa de fugas.
3. Deposición láser precisa:Utiliza pulsos láser de alta energía (<4 kW) para evaporar materiales objetivo, permitiendo la deposición de películas delgadas de metales, óxidos, nitruros y otros materiales compuestos.
4. Sistema de rotación de cuatro objetivos:Incorpora rotación planetaria y autorrotación con exposición de un solo objetivo mediante un obturador, lo que permite la deposición continua de múltiples materiales.
5. Soporte de sustrato de alta temperatura:Proporciona un control preciso de la temperatura y una velocidad de rotación ajustable para satisfacer los requisitos de procesos complejos.
6. Compatibilidad de grado de investigación:Capaz de preparar materiales refractarios como películas de diamante y nitruro cúbico, ideal para I+D de materiales avanzados.
7. Configuración de seguridad inteligente:Equipada con sistemas incorporados de horneado, iluminación y alarma de presión de agua; la entrada de gas controlada por MFC (0–100 sccm) garantiza condiciones de proceso estables.
8. Capacidad de recuperación rápida:Mantiene un vacío ≤20 Pa después de una parada de la bomba de 12 horas, mejorando la eficiencia experimental.
9. Estructura modular:Distancia ajustable entre el portasustratos y el sistema de objetivo giratorio para una adaptación flexible a diferentes configuraciones de deposición.
10. Optimizado para la producción a pequeña escala:Adecuado para universidades e institutos de investigación, combinando la investigación exploratoria con la fabricación de películas delgadas de precisión.
TParámetros técnicos
Nombre del producto | Sistema de deposición láser pulsada esférica (PLD) |
Condiciones de instalación | 1. Temperatura ambiente: 10℃～35℃ 2. Humedad relativa: no superior al 75% 3. Alimentación: 220 V, monofásica, 50 ± 0,5 Hz 4. Potencia del equipo: menos de 4 kW 5. Suministro de agua: presión de agua de 0,2 MPa a 0,4 MPa, temperatura del agua de 15 °C a 25 °C. 6. El entorno que rodea al equipo debe estar ordenado, el aire debe estar limpio y no debe haber polvo ni gas que pueda causar corrosión en los aparatos eléctricos u otras superficies metálicas o causar conducción entre metales. |
Parámetros principales (Especificación) | 1. El sistema adopta una estructura esférica y una puerta frontal manual. 2. Todos los componentes y accesorios de la cámara de vacío están hechos de acero inoxidable de alta calidad (304), soldadura por arco de argón y la superficie está tratada con granallado de vidrio y pulido electroquímico y pasivado. 3. La cámara de vacío está equipada con una ventana de observación visual. El tamaño efectivo de la cámara de vacío es de Φ300 mm. 4. Límite del grado de vacío: ≤6,67×10-5Pa (Después de hornear y desgasificar, utilice una bomba molecular de 600 L/s para bombear aire y utilice 8 L/s para la etapa frontal); • Tasa de fugas del sistema de detección de fugas de vacío: ≤5,0×10-7Pa.L/S; El sistema comienza a bombear aire de la atmósfera a 8,0×10-4Pa, a la que se puede llegar en 40 minutos; • Grado de vacío tras 12 horas de parada de la bomba: ≤20 Pa 5. Etapa de muestra: el tamaño de la muestra es φ40 mm, la velocidad de rotación es de 1 a 20 RPM y la distancia entre la etapa del sustrato y el objetivo de rotación es de 40 a 90 mm. 6. Temperatura máxima de calentamiento de la muestra: 800 ℃, precisión del control de temperatura: ±1 ℃, y se utiliza un medidor de control de temperatura para el control de temperatura. 7. Objetivo de rotación de cuatro estaciones: cada posición del objetivo es φ40 mm, solo una posición del objetivo está expuesta en el deflector/obturador, el haz láser debe alcanzar la posición superior del objetivo y el objetivo de rotación tiene las funciones de revolución y autorrotación. 8. En la cámara de vacío se instalan dispositivos de horneado, iluminación y alarma de presión de agua. 9. Caudalímetro másico unidireccional MFC (para controlar el aire de admisión): 0-100 sccm |
Garantía
Un año de garantía limitada con soporte de por vida (no incluye piezas oxidadas debido a condiciones de almacenamiento inadecuadas).
Logística
