Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío
1. El vacío máximo del recubridor por pulverización catódica con un solo cabezal puede alcanzar 8,0 X 10-5 Pa.
2. El recubridor por pulverización catódica con un solo cabezal está equipado con 1 nave de calentamiento por evaporación, 2 estaciones de horno de fuente de haz (1 horno de fuente de haz es estándar), 1 juego de medidores de flujo (un juego de gas argón) con ventana de observación de vidrio de φ150.
3. Después de recibir el recubridor por pulverización catódica de un solo cabezal, le brindaremos un servicio posventa integral, como asistencia remota.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 10 días laborables
- 50 juegos
- información
Introducción del recubridor por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío:
El recubridor por pulverización catódica de magnetrón de alto vacío VTC-1HD-ZF2 es un equipo multifuncional de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de un solo objetivo. Este recubridor puede utilizarse para preparar películas ferroeléctricas monocapa o multicapa, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de politetrafluoroetileno, etc.
Ventajas del recubrimiento por pulverización catódica de plasma con magnetrón:
1. El recubridor por pulverización catódica de plasma magnetrón está equipado con una nave de calentamiento por deposición de vapor, especialmente adecuada para la deposición de vapor de películas metálicas sensibles al oxígeno (como Ti, Al, Au, etc.). Cuenta con un deflector giratorio sobre la nave de calentamiento, dos estaciones de horno de fuente de haz (una de ellas es estándar) y un juego de medidores de flujo (uno de gas argón) con ventana de observación de vidrio de φ150.
2. Ámbito de aplicación del recubridor por pulverización catódica de plasma con magnetrón: preparación de dispositivos de materiales de perovskita, materiales bidimensionales, células solares fotovoltaicas, etc.
3.3. Recubridor por pulverización catódica con cabezal único. Entrada de alimentación: CA 220 V/50 Hz. Potencia <3,5 kW.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica de plasma con magnetrón:
| Nombre del producto | Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de alto vacío VTC-1HD-ZF2 |
| Modelo de producto | VTC-1HD-ZF2 |
| Parámetros principales | 1. Cámara de vacío: φ324X330 Vacío máximo 8,0 x 10-5 Pa (sistema de bomba molecular) Tasa de fuga: 2,0x10-10Pa.m3/s El material es acero inoxidable 304 soldado con tratamiento de pulido de superficie electroquímico. La parte activa está sellada con un anillo de sello de goma y la parte inactiva está sellada con un anillo de sello de cobre. La transmisión de potencia adopta un enlace de acoplamiento magnético. La cámara de vacío tiene una posición de objetivo de control magnético, un conjunto de electrodos de evaporación (dos) y 2 posiciones de horno de fuente de haz (1 horno de fuente de haz estándar). Se reserva un juego de medidores de flujo (un juego de gas argón) con una ventana de observación de vidrio de φ150 y una interfaz de brida C35. |
2. Cabezal de objetivo de pulverización catódica: 2 pulgadas (φ50,8 mm) Vacío de trabajo: 10 Pa ~ 0,2 Pa. Tasa de utilización del material objetivo: >35% (objetivo de cobre estándar de 3 mm, vacío de la superficie del objetivo 0,5 Pa) POTENCIA MÁXIMA: <240 W (completamente refrigerado) Voltaje de aislamiento: >2000V (con fuente de alimentación de CC de 1500W) | |
3. Evaporación por resistencia: Voltaje de salida de evaporación: CA 0-8 V continuamente ajustable. Limite la corriente de evaporación a 200A. Limite la potencia de evaporación <1,6KW. La temperatura es incontrolable e inmensurable. | |
4. Horno de fuente de haz: Capacidad del crisol: 3 CC. Temperatura de calentamiento: temperatura ambiente hasta 800°C. La temperatura de calentamiento se puede medir, ajustar y controlar. Precisión del control de temperatura: ±0,5 °C. Crisol de cuarzo con deflector y termopar de serie. Fuente de alimentación: 500W, 36V. | |
5. Etapa de muestra: φ120. Control de temperatura: temperatura ambiente - 500°C. Velocidad: 1-20rpm. La platina de muestra se puede subir y bajar manualmente, con una carrera máxima ajustable de 50 mm. | |
6. Medidor de espesor de película EQ-TM106-1. 1) Fuente de alimentación: DC 5V (±10%), corriente máxima 400mA. 2) Resolución de frecuencia: ±0,03 Hz. 3) Resolución de espesor de película: 0,0136Å (aluminio). 4) Precisión del espesor de la película: ±0,5%, dependiendo de las condiciones del proceso, especialmente la posición del sensor, la tensión del material, la temperatura y la densidad. 5) Velocidad de medición: 100ms-1s/tiempo, ajustable. 6) Rango de medición: 500000Å (aluminio). 7) Cristal sensor estándar: 6MHz. 8) Interfaz de computadora: Interfaz serial RS-232/485 (velocidad en baudios configurable: 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400, bit de datos: 8, bit de parada: 1, verificación: ninguna) 9) Salida analógica: resolución de 8 bits, salida de modulación de ancho de pulso PWM (colector abierto o salida interna de 5 V) 10) Ambiente de trabajo: temperatura 0-50 ℃, humedad 5%-85% RH, sin condensación. 11) Dimensiones: 90 mm × 50 mm × 18 mm. | |
| 7. El equipo incluye un enfriador (modelo KJ5000) de serie. Los clientes deben proporcionar su propio enfriador y agua desionizada o purificada. | |
| 8. Entrada de energía de toda la máquina: CA 220 V/50 Hz. Potencia <3,5 kW. | |
9. Especificaciones del producto: Tamaño: aproximadamente 1300 mm × 660 mm × 1200 mm. Peso: unos 160 kg. |
Sobre nosotros:
Contamos con equipos de producción avanzados y un estricto sistema de gestión de calidad para garantizar que cada producto cumpla con los estándares internacionales. Entre ellos, nuestro recubridor por pulverización catódica de un solo cabezal es especialmente adecuado para la evaporación de películas metálicas sensibles al oxígeno. Ofrece un rendimiento estable y se utiliza ampliamente en la investigación de materiales. Nuestro equipo de I+D continúa innovando, combinando la demanda del mercado con las opiniones de los clientes para ofrecer soluciones más precisas y eficientes. Gracias a nuestros muchos años de experiencia y a nuestra amplia experiencia técnica, no solo nos hemos forjado una excelente reputación en el sector, sino que también hemos recibido el reconocimiento de numerosos clientes.
