Introducción de la placa calefactora de vacío para laboratorio

En el trabajo diario de los laboratorios de materiales, a menudo nos enfrentamos a un dilema complicado: la necesidad de realizar un tratamiento térmico o recubrimiento en muestras ultrafinas (como cristales, obleas de semiconductores y sustratos de pilas de combustible) en un entorno de alta temperatura (300 ℃ - 500 ℃), pero los métodos de fijación mecánica tradicionales pueden causar fácilmente daños por tensión.

Para abordar este desafío experimental, nuestro equipo ha diseñado específicamente el aspirador HP-500V.placa calefactora de laboratorioHoy nos gustaría discutir, desde una perspectiva técnica, cómo este dispositivo logra un equilibrio entre la adsorción de alto vacío y el calentamiento uniforme a alta temperatura.

I. Material del núcleo: ¿Por qué insistimos en utilizar latón fundido?

Muchosplacas calefactoras de laboratorioEn el mercado se utilizan aleaciones de aluminio o cerámica, pero para el HP-500V, la temperatura máxima se establece en 500 °C. En este rango de temperatura, el aluminio común es propenso a la fluencia, mientras que la cerámica, aunque resistente a altas temperaturas, presenta una uniformidad térmica ligeramente inferior.

Elegimos latón fundido como material de la placa calentadora central.

• Resistencia a la deformación: el latón fundido mantiene una excelente resistencia mecánica a 500 ℃ y, combinado con un diseño de estructura de disipación de calor de doble capa, garantiza que la superficie no se deforme durante el funcionamiento a alta temperatura a largo plazo.

Uniformidad térmica: La alta conductividad térmica del cobre permite que el calor se transfiera rápidamente del elemento calefactor a toda la superficie. Para análisis químicos y experimentos de medición física, esto significa que la diferencia de temperatura entre el punto central y el punto de borde se minimiza naturalmente gracias a las propiedades físicas.

II. Adsorción al vacío:

La característica más importante del HP-500Vplaca calefactora de laboratorio son los microporos de adsorción de precisión dispuestos dentro del área de calentamiento efectiva de 350 mm × 240 mm.

Principio de funcionamiento: Elplaca calefactora de laboratorio Requiere una bomba de vacío externa (velocidad de bombeo recomendada ≥70 L/min). A través de la cámara de presión negativa en la parte inferior, se crea una fuerte fuerza de adsorción en la superficie de la placa calefactora.

Escenarios de aplicación: Esto es especialmente importante para la pulverización de pirólisis y el recubrimiento de sustratos de celdas de combustible. Absorbe firmemente la muestra de película delgada en la superficie, solucionando el problema de fijación de la muestra y, al estar en estrecho contacto con la placa de cobre, mejora considerablemente la eficiencia de transferencia de calor y elimina los errores de temperatura causados ​​por los espacios de aire.

III. Hardware robusto y software a la altura. Este dispositivo no es solo una placa calefactora, sino un sistema preciso de control de temperatura.

Control de Temperatura con Inteligencia Artificial PID: Utilizamos un algoritmo PID de IA que garantiza una precisión de control de temperatura estable a ±1 °C. Durante el proceso de calentamiento, el sistema suprime automáticamente el sobreimpulso; en la etapa de temperatura constante, responde rápidamente a pequeñas fluctuaciones de la temperatura ambiente.

Configuración de potencia: El diseño de alta potencia de 3500 W garantiza una velocidad de calentamiento rápida, lo que reduce el tiempo de espera experimental.

IV. Sugerencias de instalación y uso desde la perspectiva de un ingeniero.

Como personal técnico del fabricante, para ayudarle a utilizar este equipo de manera eficaz, tenemos algunas sugerencias basadas en nuestra experiencia en depuración:

Respecto al flujo de aire ambiental (muy importante):

Aunque el dispositivo es de alta potencia, evite colocarlo cerca de rejillas de ventilación de aire acondicionado, bajo la corriente directa de aire de un ventilador o en una campana extractora con una fuerte corriente de aire. Los datos experimentales muestran que una fuerte corriente de aire convectiva altera significativamente la uniformidad del campo de temperatura en la superficie de la placa calefactora, provocando una disminución de la temperatura del borde debido al efecto de enfriamiento del viento.

Entorno de suministro de energía:

Elplaca calefactora de laboratorio Tiene una corriente nominal de aproximadamente 16 A (basado en 220 V/3500 W), pero se producirá una sobretensión al arrancar. Los requisitos de instalación indican claramente que se requiere una fuente de alimentación monofásica de CA de 220 V, 50 Hz y 25 A, con una conexión a tierra adecuada. Asegúrese de revisar el circuito eléctrico de su laboratorio y no utilice regletas de baja calidad.

Práctica de precalentamiento:

Aunque está hecho de cobre fundido, antes de realizar experimentos de alta precisión, se recomienda mantener la temperatura establecida durante 10 a 15 minutos después de alcanzarla. Esto permite que el calor alcance el equilibrio térmico completo en toda la placa de cobre. Colocar la muestra en este punto permitirá obtener la mejor repetibilidad de los datos experimentales.

EnShenyang Kejing, antes del HP-500Vplaca calefactora de laboratorio sale de fábrica, realizamos rigurosas pruebas de aislamiento, pruebas de puesta a tierra y pruebas de sellado al vacío.

Esta placa calefactora de latón, aparentemente sencilla, refleja nuestra comprensión de la tecnología de procesamiento de materiales. Ya sea que se trate de secado con perovskita o tratamiento térmico de metales, esperamos que la HP-500V...placa calefactora de laboratorio se convertirá en su socio más robusto, estable y eficiente en su mesa de laboratorio.